Pat
J-GLOBAL ID:200903080155808712
プラズマ表面処理方法、プラズマ生成装置及びプラズマ表面処理装置
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
,
Agent (1):
三木 久巳
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005029760
Publication number (International publication number):2006216468
Application date: Feb. 04, 2005
Publication date: Aug. 17, 2006
Summary:
【目的】 従来のプラズマ処理では困難であった物質固体表面の表面改質を行なうプラズマ生成装置及びプラズマ表面処理装置を提供する。【構成】 電極間にプラズマを発生させるプラズマ発生部と、このプラズマ発生部に原料物質を供給する原料供給部から構成されるプラズマ生成装置において、前記原料物質が化学組成中にOHを有するOH含有物質を少なくとも含み、前記原料供給部が前記OH含有物質をプラズマ発生部に供給するOH含有物質供給手段から構成され、前記プラズマ発生部で生起されるプラズマがOH分子、OHイオン又はこれらから生成される二次粒子を少なくとも含有するOH含有プラズマであるプラズマ生成装置と、このプラズマ生成装置によって生成されたOH含有プラズマにより被処理物表面を処理して所望の表面特性を付与するプラズマ表面処理方法及びプラズマ表面処理装置である。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
化学組成中にOHを有するOH含有物質からなる原料物質をプラズマ発生部に供給し、このプラズマ発生部においてOH分子、OHイオン又はこれらから生成される二次粒子を少なくとも含有するOH含有プラズマを生起し、このOH含有プラズマにより被処理物の表面に表面処理を施すことを特徴とするプラズマ表面処理方法。
IPC (5):
H05H 1/24
, B01J 19/08
, B08B 7/00
, H05H 1/32
, H05H 1/48
FI (5):
H05H1/24
, B01J19/08 E
, B08B7/00
, H05H1/32
, H05H1/48
F-Term (25):
3B116AA46
, 3B116AB01
, 3B116BB22
, 3B116BC01
, 4F070AA19
, 4F070AA23
, 4F070AA24
, 4F070AA28
, 4F070HA06
, 4F070HB14
, 4G075AA23
, 4G075AA27
, 4G075AA30
, 4G075BA05
, 4G075BA06
, 4G075BC06
, 4G075BD14
, 4G075BD16
, 4G075CA17
, 4G075CA47
, 4G075CA62
, 4G075CA63
, 4G075EC21
, 4G075FB12
, 4G075FC20
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (12)
-
支持体の表面処理装置、支持体の表面処理方法、及び表面処理した支持体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-245151
Applicant:コニカ株式会社
-
プラズマ発生装置及びこれを用いた表面清掃方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-154993
Applicant:三菱重工業株式会社
-
金属酸化物薄膜の形成方法及び金属酸化物薄膜の形成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-137318
Applicant:積水化学工業株式会社
-
表面処理方法及び該表面処理方法により表面処理された基材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-089913
Applicant:コニカミノルタホールディングス株式会社
-
プラズマ処理方法ならびにプラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-275576
Applicant:ワイエイシイ株式会社
-
成膜装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-065630
Applicant:株式会社リコー
-
液晶表示素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-232667
Applicant:積水化学工業株式会社
-
灰・土壌の無害化処理方法び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-349122
Applicant:三菱重工業株式会社
-
眼用レンズの表面改質方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-182635
Applicant:株式会社メニコン
-
大気圧プラズマ処理装置及び大気圧プラズマ処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-238892
Applicant:コニカ株式会社
-
浄化装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-297416
Applicant:松下電器産業株式会社
-
配線板の表面処理方法及び電気装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-424027
Applicant:ソニーケミカル株式会社
Show all
Return to Previous Page