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J-GLOBAL ID:200903082973611161

レジスト用感光性樹脂組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大垣 孝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997119911
Publication number (International publication number):1998307399
Application date: May. 09, 1997
Publication date: Nov. 17, 1998
Summary:
【要約】【課題】 193nm付近の波長の光吸収が小さく、ArFエキシマレーザを用いて高い解像度のレジストパターンを得ることができ、しかも、反応性イオンエッチングにおける、耐ドライエッチング性にすぐれたレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 レジスト用感光性樹脂組成物に、特定のメタクリル酸エステルポリマを含み、この特定のメタクリル酸エステルポリマは、モノマ成分の一つとして、メタクリル酸エステルモノマのエステル部分に少なくとも1個の窒素原子を含む芳香族環(2個以上の芳香族環からなる縮合環を含む)を有するモノマを含んで構成されていることを特徴とする。
Claim (excerpt):
メタクリル酸エステルポリマを含むレジスト用感光性樹脂組成物において、前記メタクリル酸エステルポリマは、モノマ成分の一つとして、式(1)で表される、メタクリル酸エステルモノマのエステル部分に、少なくとも1個の窒素原子を含む芳香族環を有するモノマを含んで構成してあることを特徴とするレジスト用感光性樹脂組成物。【化1】
IPC (4):
G03F 7/039 601 ,  C08F220/12 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/34
FI (4):
G03F 7/039 601 ,  C08F220/12 ,  C08F 20/34 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (18)
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Cited by examiner (26)
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