Pat
J-GLOBAL ID:200903082973611161
レジスト用感光性樹脂組成物
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大垣 孝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997119911
Publication number (International publication number):1998307399
Application date: May. 09, 1997
Publication date: Nov. 17, 1998
Summary:
【要約】【課題】 193nm付近の波長の光吸収が小さく、ArFエキシマレーザを用いて高い解像度のレジストパターンを得ることができ、しかも、反応性イオンエッチングにおける、耐ドライエッチング性にすぐれたレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 レジスト用感光性樹脂組成物に、特定のメタクリル酸エステルポリマを含み、この特定のメタクリル酸エステルポリマは、モノマ成分の一つとして、メタクリル酸エステルモノマのエステル部分に少なくとも1個の窒素原子を含む芳香族環(2個以上の芳香族環からなる縮合環を含む)を有するモノマを含んで構成されていることを特徴とする。
Claim (excerpt):
メタクリル酸エステルポリマを含むレジスト用感光性樹脂組成物において、前記メタクリル酸エステルポリマは、モノマ成分の一つとして、式(1)で表される、メタクリル酸エステルモノマのエステル部分に、少なくとも1個の窒素原子を含む芳香族環を有するモノマを含んで構成してあることを特徴とするレジスト用感光性樹脂組成物。【化1】
IPC (4):
G03F 7/039 601
, C08F220/12
, H01L 21/027
, C08F 20/34
FI (4):
G03F 7/039 601
, C08F220/12
, C08F 20/34
, H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (18)
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パターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-320843
Applicant:株式会社東芝
-
ポジ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-252351
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
特開平4-077595
-
レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-125006
Applicant:株式会社東芝
-
レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-298995
Applicant:和光純薬工業株式会社
-
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-270332
Applicant:日本合成ゴム株式会社
-
レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-312669
Applicant:日本ゼオン株式会社
-
パターン形成材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-125678
Applicant:信越化学工業株式会社
-
アルコキシカルボニルノルボルニル(メタ)アクリレート及びその製造方法並びに感光性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-142803
Applicant:出光石油化学株式会社
-
特開平3-031845
-
ポジ型感光性レジスト組成物及びそれを用いた銅含有層のパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-031351
Applicant:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
-
特開昭62-039603
-
特開昭58-024562
-
特開昭54-123025
-
特開昭63-156812
-
特開昭61-009410
-
反射防止コーティング組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-188850
Applicant:シップレーカンパニーエルエルシー
-
特開昭58-032667
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パターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-320843
Applicant:株式会社東芝
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ポジ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-252351
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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特開平4-077595
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レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-125006
Applicant:株式会社東芝
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レジスト組成物
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Application number:特願平5-298995
Applicant:和光純薬工業株式会社
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Application number:特願平6-270332
Applicant:日本合成ゴム株式会社
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Application number:特願平5-312669
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Application number:特願平6-125678
Applicant:信越化学工業株式会社
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Application number:特願平7-142803
Applicant:出光石油化学株式会社
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特開平3-031845
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Application number:特願平6-031351
Applicant:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
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特開昭58-024562
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特開昭54-123025
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特開昭63-156812
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特開昭61-009410
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反射防止コーティング組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-188850
Applicant:シップレーカンパニーエルエルシー
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特開昭58-032667
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