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J-GLOBAL ID:200903083303157989
金属ベース板付Al回路基板
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000235110
Publication number (International publication number):2002050841
Application date: Aug. 03, 2000
Publication date: Feb. 15, 2002
Summary:
【要約】【課題】安価かつ安定に耐半田クラック性の高い金属ベース板付Al回路基板が提供する。【解決手段】セラミックス基板(1)の表面に回路(2)、裏面に放熱板(3)が形成されてなる回路基板を、熱膨張係数10ppm以上である金属を主成分とするベース板(4)に、Sn-Pb系半田を用いて、半田(5)付けしてなる接合体において、セラミックス基板の材質が、窒化アルミニウム又は窒化ケイ素であり、回路及び放熱板がAl又はAl合金であり、放熱板の厚みが0.1〜0.2mmであることを特徴とする金属ベース板付Al回路基板。
Claim (excerpt):
セラミックス基板(1)の表面に回路(2)、裏面に放熱板(3)が形成されてなる回路基板を、熱膨張係数10ppm以上である金属を主成分とするベース板(4)に、Sn-Pb系半田を用いて、半田(5)付けしてなる接合体において、セラミックス基板の材質が、窒化アルミニウム又は窒化ケイ素であり、回路及び放熱板がAl又はAl合金であり、放熱板の厚みが0.1〜0.2mmであることを特徴とする金属ベース板付Al回路基板。
IPC (2):
H05K 1/05
, H05K 3/34 512
FI (2):
H05K 1/05 B
, H05K 3/34 512 C
F-Term (6):
5E315AA03
, 5E315BB03
, 5E315GG01
, 5E315GG16
, 5E319BB07
, 5E319GG11
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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パワーモジュール用配線基板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-276184
Applicant:京セラ株式会社
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ヒートシンク
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-025124
Applicant:電気化学工業株式会社
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セラミックス回路基板とその製造方法、それを用いたパワーモジュール
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-210705
Applicant:電気化学工業株式会社
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パワーモジュール
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-025122
Applicant:電気化学工業株式会社
-
ヒートシンク付き回路基板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-155686
Applicant:電気化学工業株式会社
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マルチチップモジュール半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-017899
Applicant:株式会社東芝
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ヒートシンク付セラミック回路基板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-221477
Applicant:三菱マテリアル株式会社
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セラミックス回路基板とそれを用いたパワーモジュール
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-272810
Applicant:電気化学工業株式会社
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