Pat
J-GLOBAL ID:200903083903033795
表面発光型半導体レーザおよびその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
片寄 恭三
, 片山 修平
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002180604
Publication number (International publication number):2004023087
Application date: Jun. 20, 2002
Publication date: Jan. 22, 2004
Summary:
【課題】基本横モード発振でありながら光出力を改善した面発光レーザを提供する。【解決手段】表面発光型半導体レーザ100は、半導体基板1と、基板1上に形成されたn型の下部多層膜反射鏡2と、活性領域3と、電流狭窄部4と、p型の上部多層膜反射鏡5と、コンタクト層6と、第1金属コンタクト層7とを有し、メサ構造101のレーザ素子部は、コンタクト層6、上部多層膜反射鏡5、電流狭窄部4及び第1金属コンタクト層7を含み、メサ構造101は第1コンタクト層7に整合された側面を有する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
メサ構造のレーザ素子部を備えた表面発光型半導体レーザであって、前記表面発光型半導体レーザは、
基板と、該基板上に形成された第1導電型の下部半導体多層ミラーと、第2導電型の上部半導体多層ミラーと、前記下部半導体多層ミラーと前記上部半導体多層ミラーとの間に配された活性領域と、前記下部半導体多層ミラーと前記上部半導体ミラーとの間に配された電流狭窄部と、前記上部半導体多層ミラー上に形成された金属部とを有し、
前記メサ構造は、少なくとも前記上部半導体多層ミラー、前記電流狭窄部及び前記金属部を含み、前記メサ構造は前記金属部に整合された側面を有する、表面発光型半導体レーザ。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (8):
5F073AA74
, 5F073AB17
, 5F073BA09
, 5F073CA05
, 5F073CB02
, 5F073CB22
, 5F073DA05
, 5F073DA21
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
-
面発光型半導体レーザ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-142370
Applicant:富士ゼロックス株式会社
-
垂直共振器型面発光半導体レーザ装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-306804
Applicant:富士ゼロックス株式会社
-
電気光学的特性が改善された半導体光放出装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-358442
Applicant:三星電子株式会社
-
半導体素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-112356
Applicant:キヤノン株式会社
-
面発光型半導体レーザ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-076602
Applicant:株式会社日立製作所
-
垂直共振器型面発光レーザ及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-019330
Applicant:松下電器産業株式会社
-
横型ウェーブガイドおよび制限電流を有するVCSEL
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-040594
Applicant:モトローラ・インコーポレイテッド
-
面発光型半導体レーザ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-039580
Applicant:セイコーエプソン株式会社
-
面発光半導体レーザ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-101065
Applicant:株式会社日立製作所
Show all
Return to Previous Page