露光方法および露光装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：松下義治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003121451
Publication number (International publication number)：2004327786
Application date： Apr. 25, 2003
Publication date： Nov. 18, 2004
Summary：

【課題】近接場光を利用し、様々な形状が混在したマスクパターンのパターン太りを防止して露光する露光方法及び露光装置の提供。【解決手段】直線偏光からなる露光光15を、金属材料で構成されるマスクパターン6に照射し、マスクパターン6の外形のうち直線偏光の偏光方向と略直交する部分で発生する近接場光を利用してレジスト7を露光する露光方法及び露光装置。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

直線偏光からなる露光光を、金属材料で構成されるマスクパターンに照射し、前記マスクパターン外形のうち前記直線偏光の偏光方向と略直交する部分で発生する近接場光を利用して前記近接場光が届く位置に保持される感光材料を露光する露光方法。

IPC (2)：

H01L21/027 , G03F7/20

FI (2)：

H01L21/30 502D , G03F7/20 521

F-Term (6)：

5F046BA01 , 5F046BA10 , 5F046CB15 , 5F046CB17 , 5F046DA20 , 5F046DA23

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

焼き付け方法、マスク基板、及び焼き付け装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-098448 Applicant：キヤノン株式会社
近接場光露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-188219 Applicant：富士写真フイルム株式会社
空間像を解析する方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-078216 Applicant：株式会社ニコン

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