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J-GLOBAL ID:200903095593072793
多層配線基板
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996246066
Publication number (International publication number):1998093247
Application date: Sep. 18, 1996
Publication date: Apr. 10, 1998
Summary:
【要約】【課題】配線導体が高密度に形成することができずまた全体の形状が大型化する。【解決手段】基板1と、該基板1の少なくとも一主面上に被着され、複数の有機樹脂絶縁層3a、3b、3cと複数の薄膜配線導体4a、4b、4cとを交互に多層に配設するとともに上下に位置する薄膜配線導体4a、4b、4cを各有機樹脂絶縁層3a、3b、3cに設けたスルーホール導体9を介して接続して成る多層配線部2と、前記有機樹脂絶縁層の少なくとも一層3bに比誘電率が20以上の誘電物フィラーを含有させるとともに該誘電物フィラーが含有されている有機樹脂絶縁層3bをその上下両面に配設されている薄膜配線導体4a、4bの一部で対向挟持させることによって形成され、前記薄膜配線導体4a、4b間に電気的に接続させている容量素子Aとから成る多層配線基板であって、前記各有機樹脂絶縁層が酸触媒型の感光性エポキシ樹脂で形成されている。
Claim (excerpt):
基板と、該基板の少なくとも一主面上に被着され、複数の有機樹脂絶縁層と複数の薄膜配線導体とを交互に多層に配設するとともに上下に位置する薄膜配線導体を各有機樹脂絶縁層に設けたスルーホール導体を介して接続して成る多層配線部と、前記有機樹脂絶縁層の少なくとも一層に比誘電率が20以上の誘電物フィラーを含有させるとともに該誘電物フィラーが含有されている有機樹脂絶縁層をその上下両面に配設されている薄膜配線導体の一部で対向挟持させることによって形成され、前記薄膜配線導体間に電気的に接続させている容量素子とから成る多層配線基板であって、前記各有機樹脂絶縁層が酸触媒型の感光性エポキシ樹脂で形成されていることを特徴とする多層配線基板。
IPC (4):
H05K 3/46
, H01L 23/12
, H01L 23/14
, H05K 1/03 610
FI (6):
H05K 3/46 T
, H05K 3/46 N
, H05K 3/46 Q
, H05K 1/03 610 R
, H01L 23/12 N
, H01L 23/14 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
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コンデンサ内蔵薄膜多層配線板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-171940
Applicant:富士通株式会社
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コンデンサ内蔵型配線基板およびその製造方法
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Application number:特願平3-282324
Applicant:小澤壽一郎, 株式会社村田製作所
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エポキシ樹脂組成物及びプリント基板
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Application number:特願平4-330422
Applicant:電気化学工業株式会社
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パターン形成方法
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Application number:特願平5-052757
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Application number:特願平6-240573
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Application number:特願平7-039788
Applicant:京セラ株式会社
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Application number:特願平6-279056
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多層配線基板の製造方法
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Application number:特願平5-046497
Applicant:株式会社日立製作所
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多層セラミック基板及びその製造方法
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Application number:特願平6-006806
Applicant:新光電気工業株式会社
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多層回路基板
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Application number:特願平4-259920
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-
容量内蔵型多層回路基板
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Application number:特願平5-216533
Applicant:京セラ株式会社
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