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J-GLOBAL ID：201103023594104637

インプリントリソグラフィ装置及び方法

Inventor：
ランメルス,イェルーン,ヘルマン

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ウイスター,サンダー,フレデリック

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クルイト-ステージマン,イボンヌ,ウェンデラ

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コール,ロエロフ

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Applicant, Patent owner：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

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Agent (2)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010220095
Publication number (International publication number)：2011082514
Application date： Sep. 30, 2010
Publication date： Apr. 21, 2011
Summary：
【課題】空隙によって引き起こされる欠陥レベルを低減するインプリントリソグラフィを提供する。【解決手段】充填期間にわたってパターン形成された表面をインプリント可能な液体媒体と接触させるステップを含む。媒体とパターン形成された表面との間の界面から発する(例えば、散乱又は反射する)光が充填期間中に収集され測定されて界面の1つ又は複数の空隙に関するデータが入手され、データと時間との関係から充填期間の終了時間が導出される。この方法によって、後続の工程ステップをより迅速に実行することができ、欠陥が未充填の空隙の残りの部分から発生する危険が低減する。【選択図】図3
Claim (excerpt)：
凹部を有するパターン形成された表面を有するインプリントテンプレートによって基板上にインプリント可能な液体媒体のパターン形成された層を形成するインプリント方法であって、 前記インプリント可能な液体媒体が前記パターン形成された表面の凹部を実質的に充填した時に終了時間を有する充填期間にわたって前記基板及び/又はパターン形成された表面上で前記パターン形成された表面をインプリント可能な液体媒体と接触させるステップと、 前記充填期間中に前記インプリント可能な液体媒体と前記パターン形成された表面との間の界面から発する光を測定して前記界面の1つ又は複数の空隙に関するデータを入手するステップと、 前記データと時間との関係から予想終了時間を導出するステップと、 を含むインプリント方法。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  B29C 59/02
FI (2)：
H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z
F-Term (14)：
4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AP10 ,  4F209AR11 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4F209PN13 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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