Pat
J-GLOBAL ID:201203084019899551
移動体装置、物体処理装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
立石 篤司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2011192332
Publication number (International publication number):2012060118
Application date: Sep. 05, 2011
Publication date: Mar. 22, 2012
Summary:
【課題】露光対象物を高速、高精度で位置制御でき、かつ小型、軽量のステージ装置を提供する。【解決手段】 基板支持部材がYステップ定盤上でスキャン方向に所定のストロークで移動することにより、その基板支持部材に保持された基板が、エア浮上装置に下方から支持された状態でスキャン方向に所定のストロークで移動する。また、エア浮上装置を有するYステップガイドは、基板支持部材と共にクロススキャン方向に移動するので、基板を、スキャン方向、及び/又はクロススキャン方向へ任意に移動できる。この際、Yステップ定盤も基板支持部材及びYステップガイドと共にクロススキャン方向に移動するので、基板支持部材は、常にYステップ定盤に支持される。【選択図】図2
Claim (excerpt):
水平面に平行な所定の二次元平面に沿って配置された物体の端部を保持し、少なくとも前記二次元平面内の第1方向に所定のストロークで移動可能な第1移動体と、
前記第1移動体の前記第1方向に関する移動可能範囲内で前記物体を下方から支持する物体支持部材を含み、前記第1移動体と共に前記二次元平面内で前記第1方向に直交する第2方向に移動可能な第2移動体と、
前記物体支持部材に対して少なくとも前記第1方向に関して振動的に分離され、前記第1移動体の前記第1方向に関する移動可能範囲内で前記第1移動体を下方から支持し、前記第2移動体と共に前記第2方向に移動可能な第3移動体と、を備える移動体装置。
IPC (2):
FI (3):
H01L21/30 515G
, H01L21/30 503A
, G03F7/20 521
F-Term (3):
5F146CC01
, 5F146CC08
, 5F146CC19
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (9)
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特開平4-038812
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露光装置及びデバイス製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-019834
Applicant:キヤノン株式会社
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ステージ装置及び露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-271632
Applicant:株式会社ニコン
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露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-260463
Applicant:住友化学株式会社, 株式会社ブイ・テクノロジー, 株式会社インテグレイテッドソリューションズ
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基板支持装置、基板支持方法、基板加工装置、基板加工方法、表示装置構成部材の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-292605
Applicant:大日本印刷株式会社
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距離調整用非接触支持台
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2007-507928
Applicant:コアフローサイエンティフィックソリューションズリミテッド
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基板搬送装置用基板把持機構
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-271093
Applicant:凸版印刷株式会社
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スキャン露光装置およびスキャン露光装置の基板搬送方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2009-036618
Applicant:日本精工株式会社
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移動体装置及びパターン形成装置、並びに移動体駆動方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2013-270866
Applicant:株式会社ニコン
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Cited by examiner (9)
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ステージ装置及び露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-271632
Applicant:株式会社ニコン
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スキャン露光装置およびスキャン露光装置の基板搬送方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2009-036618
Applicant:日本精工株式会社
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基板支持装置、基板支持方法、基板加工装置、基板加工方法、表示装置構成部材の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-292605
Applicant:大日本印刷株式会社
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基板搬送装置用基板把持機構
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-271093
Applicant:凸版印刷株式会社
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距離調整用非接触支持台
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2007-507928
Applicant:コアフローサイエンティフィックソリューションズリミテッド
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特開平4-038812
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露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-260463
Applicant:住友化学株式会社, 株式会社ブイ・テクノロジー, 株式会社インテグレイテッドソリューションズ
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露光装置及びデバイス製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-019834
Applicant:キヤノン株式会社
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移動体装置及びパターン形成装置、並びに移動体駆動方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2013-270866
Applicant:株式会社ニコン
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