Pat
J-GLOBAL ID：201703000755386977
炭素微小電極の製造方法
Inventor：
,
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
特許業務法人 志賀国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2015139843
Publication number (International publication number)：2017020944
Application date： Jul. 13, 2015
Publication date： Jan. 26, 2017
Summary：
【課題】本発明は、高精度な電気化学測定が実現可能な炭素微小電極を提供する。【解決手段】本発明は、微小電極の形状にパターンニングした触媒金属層の表面上に、化学気相成長法(CVD法)によりグラフェン層をパターン通りに成長させる第1工程と、前記パターン状に成長させたグラフェン層を剥離して電極基板上に載置する第2工程と、を備える炭素微小電極の製造方法である。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
微小電極の形状にパターンニングした触媒金属層の表面上に、
化学気相成長法(CVD法)によりグラフェン層をパターン通りに成長させる第1工程と、
前記パターン状に成長させたグラフェン層を剥離して電極基板上に載置する第2工程と、
を備えることを特徴とする炭素微小電極の製造方法。
IPC (1)：
FI (1)：
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
Show all
Return to Previous Page
