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J-GLOBAL ID:201903017358398017
半導体光デバイス、半導体光源、光集積回路、及び半導体光デバイスの製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
安彦 元
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2017121137
Publication number (International publication number):2019009169
Application date: Jun. 21, 2017
Publication date: Jan. 17, 2019
Summary:
【課題】高い温度環境下においても、安定に動作し、高い性能を発揮する。【解決手段】基板2の上に設けられた活性層4と、前記活性層4の上に設けられたクラッド層5とを備える半導体光デバイス1であって、前記クラッド層5の上に設けられ、第1不純物及び前記第1不純物とは異なる第2不純物を含むコンタクト層7を備えることを特徴とする。また、基板2の上に設けられた活性層4と、前記活性層4の上に設けられたクラッド層5とを備える半導体光源であって、前記クラッド層5の上に設けられ、第1不純物及び前記第1不純物とは異なる第2不純物を含むコンタクト層7を備えることを特徴とする。【選択図】図1
Claim (excerpt):
基板の上に設けられた活性層と、前記活性層の上に設けられたクラッド層とを備える半導体光デバイスであって、
前記クラッド層の上に設けられ、第1不純物及び前記第1不純物とは異なる第2不純物を含むコンタクト層を備えること
を特徴とする半導体光デバイス。
IPC (5):
H01S 5/042
, H01S 5/343
, H01L 33/14
, H01L 33/30
, H01L 31/10
FI (5):
H01S5/042 614
, H01S5/343
, H01L33/14
, H01L33/30
, H01L31/10 A
F-Term (46):
5F173AA05
, 5F173AA16
, 5F173AF08
, 5F173AF75
, 5F173AF78
, 5F173AH30
, 5F173AJ03
, 5F173AJ05
, 5F173AJ41
, 5F173AK04
, 5F173AK08
, 5F173AL03
, 5F173AL05
, 5F173AP09
, 5F173AP33
, 5F173AP54
, 5F173AP57
, 5F173AP60
, 5F173AP63
, 5F173AQ12
, 5F173AR75
, 5F173AS01
, 5F173MA02
, 5F173SC02
, 5F241AA21
, 5F241CA04
, 5F241CA05
, 5F241CA34
, 5F241CA53
, 5F241CA57
, 5F241CA58
, 5F241CA66
, 5F241CA71
, 5F241CA73
, 5F241CA92
, 5F241CA99
, 5F241FF14
, 5F849AA01
, 5F849AB07
, 5F849BA21
, 5F849BB01
, 5F849DA35
, 5F849EA11
, 5F849FA05
, 5F849GA06
, 5F849XB24
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
-
p型半導体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-059520
Applicant:松下電器産業株式会社
-
化合物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-351714
Applicant:昭和電工株式会社
-
ドープド半導体材料、ドープド半導体材料の製造方法、および半導体デバイス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-177538
Applicant:シャープ株式会社
-
半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-220806
Applicant:三菱電機株式会社
-
半導体光素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-068538
Applicant:三菱電機株式会社
-
III族窒化物半導体およびその作製方法および半導体装置およびその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-127209
Applicant:株式会社リコー
-
デュアルドーパント接触層を有する発光ダイオード
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-347087
Applicant:晶元光電股ふん有限公司
-
半導体光増幅器および光集積回路
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-252277
Applicant:富士通株式会社
-
特開昭63-278324
-
p型窒化物半導体装置とその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-005339
Applicant:ヒューレット・パッカード・カンパニー
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