文献

J-GLOBAL ID：201602260947582697   整理番号：16A1003719

添加剤を用いた酸生成促進によるEUV用化学増幅型レジストの感度向上

クリップ

著者 (5件)： 藤井槙哉 (北大 大学院) ,  岡本一将 (北大 大学院) ,  山本洋揮 (大阪大 産科研) ,  古澤孝弘 (大阪大 産科研) ,  井谷俊郎 (EIDEC)
資料名： 放射線化学討論会講演要旨集  (Program and Abstract. Annual Meetings of the Japanese Society of Radiation Chemistry)
巻： 59th  ページ： 99-100  発行年： 2016年09月20日 
JST資料番号： L0690A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 添加剤 ,  *添加物効果 ,  *化学増幅レジスト ,  *感度 ,  *フォトレジスト ,  極端紫外線 ,  *酸 ,  パルス放射線分解 ,  脱プロトン ,  フォトリソグラフィー ,  ポリビニルフェノール ,  *EUVレジスト
準シソーラス用語： パルスラジオリシス ,  EUVリソグラフィー

分類 (2件)： 放射線高分子化学  (CG03050S) ,  放射線化学反応  (CB09020M)

物質索引 (1件)： ジ-p-トリルスルホン

タイトルに関連する用語 (6件)： 添加剤 ,  酸 ,  生成促進 ,  EUV ,  化学増幅型レジスト ,  感度向上