ガスクラスターイオンビーム照射装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：井上学
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-343294
公開番号（公開出願番号）：特開2006-156065
特許番号：特許第4636862号
出願日： 2004年11月29日
公開日（公表日）： 2006年06月15日
請求項（抜粋）：

【請求項1】クラスター発生機構、前記クラスター発生機構で発生させたクラスターのイオン化機構、前記イオン化機構でイオン化させたクラスターイオンの加速機構を備えたガスクラスターイオンビーム照射装置であって、照射するガスクラスターイオンのサイズ(N)と照射エネルギー(Ea)とワーク加工面の法線に対する角度(照射角:θ°)の関係が、0.02eV≦(Ea/N)×cos2θ≦0.5eVとなるように制御することを特徴とするガスクラスターイオンビーム照射装置。

IPC (2件)：