特許

J-GLOBAL ID：201103050736665868

ガスクラスターイオンビーム照射装置

発明者： 大野 茂 ,  佐々木 新治 ,  古澤 賢司 ,  松尾 二郎 ,  青木 学聡 ,  瀬木 利夫
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  国立大学法人京都大学
代理人 (1件)： 井上 学
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-343294
公開番号（公開出願番号）：特開2006-156065
特許番号：特許第4636862号
出願日： 2004年11月29日
公開日（公表日）： 2006年06月15日
請求項（抜粋）：

【請求項1】クラスター発生機構、前記クラスター発生機構で発生させたクラスターのイオン化機構、前記イオン化機構でイオン化させたクラスターイオンの加速機構を備えたガスクラスターイオンビーム照射装置であって、照射するガスクラスターイオンのサイズ(N)と照射エネルギー(Ea)とワーク加工面の法線に対する角度(照射角:θ°)の関係が、0.02eV≦(Ea/N)×cos2θ≦0.5eVとなるように制御することを特徴とするガスクラスターイオンビーム照射装置。

IPC (2件)：

H01J 37/30 ( 200 6.01) ,  C23F 4/00 ( 200 6.01)

FI (2件)：

H01J 37/30 Z ,  C23F 4/00 A

引用特許：

出願人引用 (2件)

• パターン形成方法、これを用いた磁気抵抗効果素子及び磁気ヘッドの製造方法、並びに、ヘッドサスペンションアセンブリ及び磁気ディスク装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-039400   出願人：TDK株式会社
• ガスクラスターイオンビームによる 超精密研磨加工方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-262910   出願人：新技術事業団, 安達新産業株式会社

審査官引用 (2件)

• パターン形成方法、これを用いた磁気抵抗効果素子及び磁気ヘッドの製造方法、並びに、ヘッドサスペンションアセンブリ及び磁気ディスク装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-039400   出願人：TDK株式会社
• ガスクラスターイオンビームによる 超精密研磨加工方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-262910   出願人：新技術事業団, 安達新産業株式会社

引用文献：

出願人引用 (1件)

• "Materials processing by gas cluster ion beams"

審査官引用 (1件)

• "Materials processing by gas cluster ion beams"