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J-GLOBAL ID：201202181924618177   整理番号：12A1365778

フォトレフレクタンス分光法によるSiO₂/Si界面の歪みの解析

著者 (7件)： 阿形眞司 (大阪大 大学院基礎工学研究科) ,  寒川雅之 (大阪大 大学院基礎工学研究科) ,  江利口浩二 (松下電子 半導体社) ,  藤本晶 (和歌山工高専) ,  金島岳 (大阪大 大学院基礎工学研究科) ,  山下馨 (大阪大 大学院基礎工学研究科) ,  奥山雅則 (大阪大 大学院基礎工学研究科)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 47th  号： 2  ページ： 820  発行年： 2000年03月28日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (8件)： フォト ,  レフレクタンス ,  分光法 ,  SiO2 ,  Si ,  界面 ,  歪み ,  解析