研究者
J-GLOBAL ID:200901020363599523   更新日: 2022年10月01日

秋山 賢輔

アキヤマ ケンスケ | Akiyama Kensuke
所属機関・部署:
職名: 主任研究員
その他の所属(所属・部署名・職名) (1件):
ホームページURL (1件): https://www.kanagawa-iri.jp/
研究分野 (3件): 無機材料、物性 ,  触媒プロセス、資源化学プロセス ,  結晶工学
研究キーワード (7件): シリコンフォトニクス ,  太陽電池 ,  赤外受光素子 ,  光触媒 ,  化学気相成長 ,  シリサイド ,  Solid-state devices
論文 (92件):
もっと見る
MISC (28件):
特許 (11件):
講演・口頭発表等 (134件):
  • MOCVD合成したβ-FeSi<sub>2</sub>薄膜におけるエネルギーバンド変調
    (応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2018)
  • 窒素(N)ドーピングした鉄シリサイドのPL発光特性
    (応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2018)
  • PL発光強度増大化へのSi(111)基板上-FeSi<sub>2</sub>成長の低温度化検討
    (応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2017)
  • β-FeSi<sub>2</sub>薄膜のPL発光特性に及ぼす成長温度の影響
    (応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2017)
  • β-FeSi<sub>2</sub>/SiC複合粒子の作製と光触媒効果による水からの水素生成
    (応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2016)
もっと見る
学歴 (5件):
  • 2001 - 2004 東京工業大学大学院 総合理工学研究科 物質科学創造専攻
  • 1991 - 1994 東北大学 材料物性学研究科
  • - 1993 東北大学
  • 1987 - 1991 東北大学 金属材料系 材料物性学科
  • - 1991 東北大学
学位 (2件):
  • 工学修士 (東北大学)
  • 博士(工学) (東京工業大学)
経歴 (6件):
  • 2017 - 現在 地方独立行政法人神奈川県立産業技術総合研究所 主任研究員
  • 2016 - 現在 東京工業大学物質理工学院材料系 特別研究員
  • 2017/04 - 2018/03 山梨大学工学部 非常勤講師
  • 2008/04 - 2017/03 神奈川県産業技術センター 主任研究員
  • 2014/04 - 2016/03 東京工業大学大学院 総合理工学研究科 特別研究員
全件表示
受賞 (7件):
  • 2013/09 - 第74回応用物理学会 講演奨励賞 AgコートSi基板上に成長させた-FeSi2薄膜の微細構造解析
  • 2006/07 - Asia-Pacific Conference on Semiconducting Silicides Science and Technology Student Presentation Award Photoluminescence enhancement by isolating β-FeSi2 layer from defective layer
  • 2006/03 - 第53回応用物理学開 講演奨励賞 β-FeSi2フォトニック結晶の作製(1) 反応性イオンエッチングの検討
  • 2003/11 - IUMRS-ICAM 2003, Material research Society Japan Young Scientist Award for Presentation of an Excellent Paper Optical and Electrical properties of β-FeSi2 thin film on insulating substrate
  • 2002/09 - 第63回応用物理学会 講演奨励賞 β-FeSi2初期層を用いたSi(100)及びSi(111)基板上へのβ-FeSi2薄膜のMOCVD合成
全件表示
所属学会 (2件):
日本化学学会 ,  応用物理学会
※ J-GLOBALの研究者情報は、researchmapの登録情報に基づき表示しています。 登録・更新については、こちらをご覧ください。

前のページに戻る