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研究者
J-GLOBAL ID:200901097012685752
更新日: 2024年12月18日
富永 喜久雄
トミナガ キクオ | Tominaga Kikuo
所属機関・部署:
徳島大学 工学部 電気電子工学科
徳島大学 工学部 電気電子工学科 について
「徳島大学 工学部 電気電子工学科」ですべてを検索
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職名:
助教授
研究分野 (2件):
無機材料、物性
, 電気電子材料工学
研究キーワード (4件):
無機材料・物性
, 電気電子材料
, Inorganic Materials and Solid State physics
, Electrical and Electronic Materials
競争的資金等の研究課題 (10件):
2003 - レーザアプレーション法による薄膜製作と評価
2003 - Investigations of Thin Films Deposited by Laser Ablation
アモルファス透明導電膜の開発
スパッタリング法による窒化物薄膜の作製と膜の評価
スパッタリング法による透明導電膜の作製とその物性
スパッタリングにおける高速粒子に関する研究
Development of Amorphous transparent Conductive Oxide Films
Investigation of Nitride Films Prepared by Sputtering Technique
Preparation of Transparent Conductive Films by Sputtering Technique and Estimation of Their Film Properties
High-energy Particles in Sputtering Process
全件表示
MISC (108件):
Kikuo Tominaga, Takuya Kikuma, Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa. Energetic oxygen ions in zro2 deposition by reactive sputtering of zr. Vacuum. 2002. 66. 3-4. 279-284
Effect of Sputtering Gas Pressure and Nitrogen Concentration on Crystal Orientation and Residual Stress in Sputtered AlN. Vacuum. 2002. 66(3-4), 441-446
GaN Films Deposited by Planar Magnetron Sputtering. Vacuum. 2002. 66(3-4), 233-237
Film Properties of ZnO:Al Films Deposited by Co-spttering of ZnO : Al and contaminated Zn targets with Co, Mn and Cr. Vacuum. 2002. 66(3-4), 511-515
Amorphous ZnO-In
2
O
3
Transparent Conductive Films by Simultaneous Sputtering Method of ZnO and In
2
O
3
Targets. Vacuum. 2002. 66(3-4), 505-509
もっと見る
書籍 (2件):
電気磁気2
森北出版株式会社 1991
電気磁気1
森北出版株式会社 1990
Works (2件):
GaNスパッタ膜の製作と物性評価
2000 - 2002
Investigations of GaN Sputtered Thin Films
2000 - 2002
学歴 (4件):
- 1974 徳島大学 工学研究科 電子工学
- 1974 徳島大学
- 1972 徳島大学 工学部 電子工学
- 1972 徳島大学
学位 (1件):
工学博士 (京都大学)
委員歴 (1件):
2001 - 応用物理学会 代議員
受賞 (1件):
1994 - 日本材料学会論文賞
所属学会 (5件):
日本材料学会
, 日本真空協会
, American Vacuum Society
, 電子情報通信学会
, 応用物理学会
※ J-GLOBALの研究者情報は、
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の登録情報に基づき表示しています。 登録・更新については、
こちら
をご覧ください。
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