特許
J-GLOBAL ID:200903003268141531
感放射線性樹脂組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
和気 操
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-143950
公開番号(公開出願番号):特開2006-322988
出願日: 2005年05月17日
公開日(公表日): 2006年11月30日
要約:
【課題】電子線、極紫外線による微細パターン形成に好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】パターン形成時における解像度がライン・アンド・スペースパターンで90nm以下かつ孤立ラインパターンで100nm以下の特性を有し、下記式(1)の構造を有する酸発生剤と、酸解離性基を有するアルカリ不溶またはアルカリ難溶性の樹脂であり上記酸解離性基が解離することでアルカリ可溶性になる酸解離性基含有樹脂とを含む。【選択図】なし
請求項(抜粋):
パターン形成時における解像度がライン・アンド・スペースパターンで90nm以下かつ孤立ラインパターンで100nm以下の特性を有する感放射線性樹脂組成物であって、
該樹脂組成物は、下記式(1)の構造を有する酸発生剤と、酸解離性基を有するアルカリ不溶またはアルカリ難溶性の樹脂であり前記酸解離性基が解離することでアルカリ可溶性になる酸解離性基含有樹脂とを含むことを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
IPC (3件):
G03F 7/004
, G03F 7/039
, H01L 21/027
FI (3件):
G03F7/004 503A
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
Fターム (12件):
2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC06
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB16
, 2H025CB45
, 2H025FA17
, 4H006AB80
引用特許:
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