特許
J-GLOBAL ID：200903004222441936

蒸着膜形成方法及び蒸着膜形成装置

発明者：
金 度根

金 度根 について

, 
宋 官燮

宋 官燮 について

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許 明洙

許 明洙 について

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鄭 錫憲

鄭 錫憲 について


出願人/特許権者：
三星エスディアイ株式会社

三星エスディアイ株式会社 について


代理人 (2件)： 亀谷 美明 ,  金本 哲男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-336018
公開番号（公開出願番号）：特開2005-154903
出願日： 2004年11月19日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：
【課題】 非接触方式の高周波誘導加熱を用いて表示装置の基板上に均一な蒸着膜を形成する方法及びその方法に適した蒸着膜形成装置を提供する。【解決手段】 誘導加熱方式を用いて蒸着物質に熱を加えて得られた蒸着物質蒸気を基板面に接触させて凝縮させることにより,蒸着膜を形成する。このとき,蒸着スペースに基板を垂直に据置き,蒸着膜を形成するための蒸着物質の蒸気を基板面に供給する。したがって,基板が大型化しても蒸着膜を形成する際に基板が曲がることはなく,均一な蒸着膜の形成が可能となる。また,蒸着源と基板面との間の距離を短縮できるため,設備が小型化し,設備にかかる費用を抑えることができる。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
蒸着スペースに基板を置き,高周波誘導加熱方式により蒸着源から蒸着物質に熱を加えて得られた蒸着物質の蒸気を前記基板の蒸着面に接触させて凝縮させることにより,蒸着膜を形成する蒸着膜形成方法であって, 前記蒸着スペースにおいて,前記基板を蒸着面が重力方向に対して略平行となるように配置し,前記蒸着物質の蒸気を前記基板の蒸着面に供給することを特徴とする,蒸着膜形成方法。
IPC (2件)：
C23C14/24 ,  H01L21/285
FI (3件)：
C23C14/24 C ,  C23C14/24 A ,  H01L21/285 P
Fターム (15件)：
4K029AA24 ,  4K029BA01 ,  4K029BA31 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DB11 ,  4K029DB12 ,  4K029DB13 ,  4K029DB14 ,  4K029DB19 ,  4K029EA02 ,  4K029KA01 ,  4M104BB04 ,  4M104BB36 ,  4M104DD34
引用特許：
審査官引用 (15件)
  • 真空蒸着装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-314430   出願人：三菱重工業株式会社, 日新製鋼株式会社
  • 蒸着装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-074683   出願人：ソニー株式会社
  • 蒸着用るつぼの温度制御装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-221643   出願人：三菱重工業株式会社
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