特許
J-GLOBAL ID：200903004281974077

アンモニア含有水の処理方法および処理装置

発明者：
知福 博行

知福 博行 について

, 
山地 洋樹

山地 洋樹 について


出願人/特許権者：
株式会社神鋼環境ソリューション

株式会社神鋼環境ソリューション について


代理人 (1件)： 仲 晃一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-291219
公開番号（公開出願番号）：特開2007-098272
出願日： 2005年10月04日
公開日（公表日）： 2007年04月19日
要約：
【課題】液晶製造工場や半導体製造工場の回収プロセスにおいて生じるアンモニアを含む排水の処理方法において、塩化ナトリウムなどの塩素含有薬剤の使用量を低減し、イオン負荷の増加を抑えて各種装置の大型化を抑制し、廃棄物の量および電力消費量を削減する。【解決手段】アンモニア含有水の処理を、少なくともアンモニアを含む排水に、イオン交換処理、逆浸透膜処理または電気式脱イオン処理を施すことにより、被処理液を得る被処理液調製工程Aと、前記被処理液を電解して前記アンモニアを分解・除去し、処理廃液を得る電解工程Bと、で行う。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
少なくともアンモニアを含む排水に、イオン交換処理、逆浸透膜処理または電気式脱イオン処理を施すことにより、被処理液を得る被処理液調製工程Aと、 前記被処理液調製工程Aから排出される前記被処理液を電解して前記アンモニアを分解・除去し、処理廃液を得る電解工程Bと、を具備すること、 を特徴とするアンモニア含有水の処理方法。
IPC (8件)：
C02F 1/46 ,  C02F 1/461 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/44 ,  C02F 1/469 ,  B01D 61/48 ,  C02F 1/04 ,  C02F 9/00
FI (13件)：
C02F1/46 101 ,  C02F1/42 F ,  C02F1/44 E ,  C02F1/46 103 ,  B01D61/48 ,  C02F1/04 C ,  C02F9/00 502B ,  C02F9/00 502F ,  C02F9/00 502J ,  C02F9/00 502L ,  C02F9/00 502M ,  C02F9/00 503G ,  C02F9/00 504B
Fターム (44件)：
4D006GA03 ,  4D006GA17 ,  4D006HA61 ,  4D006JA30Z ,  4D006KA01 ,  4D006KA72 ,  4D006KB30 ,  4D006PA01 ,  4D006PB08 ,  4D006PB70 ,  4D006PC01 ,  4D025AA09 ,  4D025AB09 ,  4D025BA08 ,  4D025BB02 ,  4D025BB07 ,  4D025DA06 ,  4D025DA10 ,  4D034AA27 ,  4D034BA01 ,  4D034CA13 ,  4D034CA14 ,  4D034CA17 ,  4D061DA08 ,  4D061DB09 ,  4D061DB18 ,  4D061DB19 ,  4D061DC15 ,  4D061EA02 ,  4D061EA03 ,  4D061EA09 ,  4D061EB01 ,  4D061EB02 ,  4D061EB04 ,  4D061EB05 ,  4D061EB30 ,  4D061EB31 ,  4D061EB39 ,  4D061ED12 ,  4D061FA02 ,  4D061FA08 ,  4D061FA09 ,  4D061FA11 ,  4D061GC16
引用特許：
出願人引用 (19件)
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審査官引用 (20件)
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