特許
J-GLOBAL ID：200903004535010731
近接効果補正装置、近接効果補正方法、記憶媒体及びプログラム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-060775
公開番号（公開出願番号）：特開2003-257842
出願日： 2002年03月06日
公開日（公表日）： 2003年09月12日
要約：
【要約】【課題】 補正対象図形が所望の形状(目的図形)と一致する場合のみならず、補正対象図形が所望の形状と異なる場合にも、極めて短時間で正確且つ簡易に近接効果を補正する。【解決手段】 補正対象図形における近接効果に補正に必要な特定部位近傍、例えば予め規定された規定値に基づき、補正対象図形における縁部間の距離が規定値以下である個所のみの光強度値を算出し、この光強度値に基づいて補正対象図形を補正する。
請求項（抜粋）：
リソグラフィーによりマスクパターンの露光を行う際に、自動的に近接効果を補正する方法であって、補正対象図形における近接効果に補正に必要な特定部位近傍のみの光強度値を算出し、前記光強度値に基づいて前記補正対象図形を補正することを特徴とする近接効果補正方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 1/08
, H01L 21/82
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 516 D
, H01L 21/82 C
, H01L 21/30 502 P
2H095BA01
, 2H095BB02
, 5F046AA17
, 5F046DA02
, 5F046DB05
, 5F046DB08
, 5F046DB11
, 5F064GG10
, 5F064HH09
, 5F064HH11
