特許
J-GLOBAL ID：200903007472218387

苛酷な環境で使用するためのアバランシェ・フォトダイオード

発明者：
ピーター・エム・サンドビック

ピーター・エム・サンドビック について

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デール・エム・ブラウン

デール・エム・ブラウン について

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スティーブン・ディー・アーサー

スティーブン・ディー・アーサー について

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ケビン・エス・マートチャ

ケビン・エス・マートチャ について

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ジェームズ・ダブリュ・クレッチマー

ジェームズ・ダブリュ・クレッチマー について


出願人/特許権者：
ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ

ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ について


代理人 (3件)： 松本 研一 ,  小倉 博 ,  伊藤 信和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-409749
公開番号（公開出願番号）：特開2004-193615
出願日： 2003年12月09日
公開日（公表日）： 2004年07月08日
要約：
【課題】 本発明は、油井掘さく用途で使用するためのアバランシェ・フォトダイオード(APD)素子に関する。【解決手段】 APDは、第1のドーパントを有する基板110と、基板の上に置かれた、第1のドーパントを有する第1の層111と、第1の層の上に置かれた、第2のドーパントを有する第2の層112と、第2の層の上に置かれた、第2のドーパントを有する第3の層114と、APDの表面上に電気的パッシベーションをもたらすためのパッシベーション層116、122と、第3の層の上に置かれた、可動イオン移動を制限するためのケイ酸燐ガラス124と、第1の電極が基板の下に置かれ、また第2の電極が第3の層の上に置かれた、オームコンタクトを形成するための一対の金属電極118、120とを含み、APDは、傾斜メサ形状を形成する第1の側壁と第2の側壁とを含む。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
紫外線光子を検出するためのアバランシェ・フォトダイオードであって、 第1のドーパントを有する基板(110)と、 前記基板の上に置かれた、第1のドーパントを有する第1の層(111)と、 前記第1の層の上に置かれた、第2のドーパントを有する第2の層(112)と、 前記第2の層の上に置かれた、第2のドーパントを有する第3の層(114)と、 該アバランシェ・フォトダイオードの表面上に電気的パッシベーションをもたらすためのパッシベーション層(116、122)と、 前記第3の層の上に置かれた、可動イオン移動を制限するためのケイ酸燐ガラス(124)と、 第1の電極が前記基板の下に置かれ、また第2の電極が前記第3の層の上に置かれた、オームコンタクトを形成するための1対の金属電極(118、120)と、 を含み、 該アバランシェ・フォトダイオードが、傾斜メサ形状を形成する第1の側壁と第2の側壁とを含み、 該アバランシェ・フォトダイオードが、ほぼ摂氏150度に匹敵する温度を含む環境内で動作する、 ことを特徴とするアバランシェ・フォトダイオード。
IPC (1件)：
H01L31/107
FI (1件)：
H01L31/10 B
Fターム (9件)：
5F049MA07 ,  5F049MB03 ,  5F049MB07 ,  5F049NA07 ,  5F049NA20 ,  5F049NB07 ,  5F049QA02 ,  5F049SZ13 ,  5F049WA05
引用特許：
審査官引用 (15件)
  • 特開昭61-226973
  • 特開平4-137565
  • プラチナをドープしたアバランシェフォトダイオード
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-113519   出願人：ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
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引用文献：
審査官引用 (2件)

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