特許
J-GLOBAL ID：200903008458577796
情報表示システム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-222398
公開番号（公開出願番号）：特開2007-042701
出願日： 2005年08月01日
公開日（公表日）： 2007年02月15日
要約：
【課題】デバイス製造工程の歩留まりを向上させる。【解決手段】評価アプリケーションのメインウインドウ650では、複数のプロセスA〜Jに渡る、重ね合わせ誤差と線幅の平均等がグラフ652に表示され、ロット内のウエハ1〜10に渡る、重ね合わせ誤差と線幅の平均等がグラフ653に表示され、ショット領域1〜10に渡る、重ね合わせ誤差と線幅の平均等がグラフ654に表示される。このグラフやプルダウンメニュー657、659、661により、プロセス、ウエハ、ショット領域及びその位置座標を指定すれば、指定されたデバイス構造体のグラフィックイメージを表示することができる。このグラフィックイメージには、実際に計測されたその部分の重ね合わせ誤差や線幅が反映されている。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
プロセス単位で、物体上の複数の異なる区画領域各々に重ね合わせるように形成された複数層のデバイス構造体の形成状態を評価するための情報を表示する情報表示システムであって、
前記各デバイス構造体の形成過程及び形成結果の少なくとも一方に関する情報に基づいて、そのデバイス構造体の形成状態に関する少なくとも1種類の情報を算出する算出装置と;
前記算出されたデバイス構造体の形成状態に関する少なくとも1種類の情報を、複数のプロセス、複数の物体、複数の区画領域の少なくとも1つについて表示する表示装置と;を備える情報表示システム。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, H01L 21/02
H01L21/30 502G
, G03F7/20 521
, H01L21/02 Z
5F046AA28
, 5F046DA11
, 5F046DA30
, 5F046DD01
, 5F046DD03
, 5F046FC03
