縮合環の芳香族環を含む保護基を有する感光性ポリマー及びこれを含むレジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：八田幹雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-299878
公開番号（公開出願番号）：特開2002-088124
出願日： 2000年09月29日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
要約：

【要約】【課題】縮合環の芳香族環を含む保護基を有する感光性ポリマー及びこれを含むレジスト組成物を提供する。【解決手段】ポリマーバックボーンに結合される保護基であって、次の式(1)で表される縮合環の芳香族環を含む、酸により分解可能な保護基を含む:【化1】式中、R1は水素原子またはC1〜C4のアルキル基で、Xは水素原子、ハロゲン、アルキル基またはアルコキシ基で、yは1〜3の整数で、y=2以上のとき前記縮合環の芳香族環は線形環または分岐環である。

請求項（抜粋）：

ポリマーバックボーンに結合される保護基であって、次の式(1)で表される縮合環の芳香族環を含む、酸により分解可能な保護基を含むことを特徴とする感光性ポリマー:【化1】式中、R1は水素原子またはC1〜C4のアルキル基で、Xは水素原子、ハロゲン、アルキル基またはアルコキシ基で、yは1〜3の整数で、y=2以上のとき前記縮合環の芳香族環は線形環または分岐環である。

IPC (9件)：

C08F220/18 , C08F212/14 , C08F222/06 , C08K 5/00 , C08L 33/04 , G03F 7/004 501 , G03F 7/033 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (9件)：

C08F220/18 , C08F212/14 , C08F222/06 , C08K 5/00 , C08L 33/04 , G03F 7/004 501 , G03F 7/033 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

Fターム (44件)：

2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BF02 , 2H025BF11 , 2H025BG00 , 2H025BJ04 , 2H025CB10 , 2H025CB14 , 2H025CB16 , 2H025CB17 , 2H025CB41 , 2H025CB43 , 2H025CB55 , 2H025CC20 , 4J002BC121 , 4J002BG041 , 4J002BG051 , 4J002BG071 , 4J002EB106 , 4J002EN027 , 4J002EN107 , 4J002EV256 , 4J002EV296 , 4J002FD206 , 4J002FD207 , 4J100AB07Q , 4J100AB07R , 4J100AK32Q , 4J100AL03R , 4J100AL08P , 4J100BA03Q , 4J100BA04R , 4J100BA15R , 4J100BC48P , 4J100BC49P , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100DA61 , 4J100FA03

引用特許：

審査官引用 (13件)

染色されたフォトレジストとその方法及びそれからなる工業製品
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-307762 出願人：シップレーカンパニーエルエルシー
パタン形成方法及びそれに用いるフォトレジスト材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-089029 出願人：株式会社日立製作所, 日立化成工業株式会社
特開平4-255857

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