特許
J-GLOBAL ID:200903012488506548
スルホニウム化合物
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-005469
公開番号(公開出願番号):特開2004-217551
出願日: 2003年01月14日
公開日(公表日): 2004年08月05日
要約:
【構成】化1(ただし、R1は水素,メトキシカルボニル基,アセチル基,ベンジルオキシカルボニル基を、R2は水素,C1〜C4のアルキル基のいずれかを、R3はC1〜C4のアルキル基,C1〜C4のアルキル基で置換されていてもよいベンジル基,α-ナフチルメチル基のいずれかを、R4はC1〜C4のアルキル基のいずれかを示す。Xは、トリフルオロメタンスルホン酸基を示す。)で表わされる新規スルホニウム化合物。この化合物はイオン交換法などによって合成できる。【効果】この新規化合物は、高純度を必要とするエポキシ硬化開始剤として有用に作用する。【化1】
請求項(抜粋):
化1で表されるスルホニウム化合物。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (5件):
4H006AA01
, 4H006AB49
, 4H006TN30
, 4H006TN60
, 4H006TN90
引用特許:
審査官引用 (21件)
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レジスト材料及びパターン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-263257
出願人:信越化学工業株式会社
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パタ-ン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-371211
出願人:富士写真フイルム株式会社
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スルホニウム塩の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-266991
出願人:コレアクムホぺトロケミカルシーオーエルティーディー
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