特許
J-GLOBAL ID：200903012563909459

蒸着源ホルダ、蒸着装置、蒸着方法、及び発光装置の作製方法

発明者：
山崎 舜平

山崎 舜平 について

, 
村上 雅一

村上 雅一 について


出願人/特許権者：
株式会社半導体エネルギー研究所

株式会社半導体エネルギー研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-139723
公開番号（公開出願番号）：特開2004-043965
出願日： 2003年05月19日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：
【課題】本発明は、EL材料の利用効率を高め、且つ、EL層成膜の均一性やスループットの優れた成膜装置の一つである蒸着装置及び蒸着方法を提供するものである。また本発明は、大面積基板に対して、効率よくEL材料を蒸着する方法を提供するものである。さらに本発明は、EL材料への不純物混入を避けることが可能なシステムを提供する。【解決手段】本発明の蒸着装置は、基板と蒸着源とが相対的に移動することを特徴とする。すなわち本発明は、蒸着内において、蒸着材料が封入された容器を設置した蒸着源ホルダが、基板に対してあるピッチで移動する、または蒸着源に対して基板があるピッチで移動することを特徴とする。また本発明は、容器に精製した蒸着材料を封入し、搬送後、その容器を直接成膜装置である蒸着装置に設置し、蒸着を行うことを特徴とする。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
内部にフィルターを有する複数の容器を加熱する手段と、前記容器上に設けられたシャッターとを有することを特徴とする蒸着源ホルダ。
IPC (4件)：
C23C14/24 ,  C23C14/12 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14
FI (5件)：
C23C14/24 A ,  C23C14/24 C ,  C23C14/12 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A
Fターム (18件)：
3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  3K007FA03 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DA09 ,  4K029DA12 ,  4K029DB12 ,  4K029DB14 ,  4K029DB15 ,  4K029DB17 ,  4K029KA01
引用特許：
審査官引用 (11件)
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