X線を用いるオーバレイ計測

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：青木篤 , 鶴田準一 , 島田哲郎 , 榎原正巳 , 下道晶久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-079443
公開番号（公開出願番号）：特開2007-305971
出願日： 2007年03月26日
公開日（公表日）： 2007年11月22日
要約：

【課題】重畳されたオーバレイパターンの高精度な計測のための装置および方法を提供する。【解決手段】検査のための方法が、サンプル22の表面上に重畳された第1および第2の薄膜層内に夫々形成された第1および第2特定構造24を含むサンプルの領域に衝当する様にX線のビームを導向する段階を含む。上記第1および第2特定構造の整列を評価するために、該第1および第2特定構造から回折されたX線のパターンが検出かつ分析される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

サンプルの表面上に重畳された第1および第2の薄膜層内に夫々形成された第1および第2特定構造を含むサンプルの領域に衝当する様にX線のビームを導向する段階と、上記第1および第2特定構造から回折されたX線のパターンを検出する段階と、上記第1および第2特定構造の整列を評価するために上記パターンを分析する段階と、を備えて成る、検査のための方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 9/00 , G01N 23/207

FI (4件)：

H01L21/30 502V , H01L21/30 502M , G03F9/00 H , G01N23/207

Fターム (14件)：

2G001AA01 , 2G001AA09 , 2G001BA18 , 2G001CA01 , 2G001DA01 , 2G001DA09 , 2G001EA02 , 2G001EA09 , 2G001FA03 , 2G001GA05 , 2G001MA05 , 5F046EA04 , 5F046EB01 , 5F046FA08

引用特許：

出願人引用 (3件)

米国特許第6756167号明細書
米国特許第6453002号明細書
米国特許第6556652号明細書

審査官引用 (9件)

半導体製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-146730 出願人：三菱電機株式会社
周期パターンおよびずれを制御するための技術
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-581921 出願人：ケーエルエー-テンカーコーポレイション
位置検出装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-181696 出願人：キヤノン株式会社

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