特許
J-GLOBAL ID:200903017951874715
キャパシタ層形成材及びそのキャパシタ層形成材の製造方法並びにそのキャパシタ層形成材を用いて得られる内蔵キャパシタ層を備えたプリント配線板
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
吉村 勝博
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-009595
公開番号(公開出願番号):特開2006-196848
出願日: 2005年01月17日
公開日(公表日): 2006年07月27日
要約:
【課題】製造コストメリットに優れたゾル-ゲル法を用いた誘電膜であって、従来に無い高い電気容量を備え且つ長寿命のキャパシタ回路を製造出来るキャパシタ層形成材を提供する。【解決手段】上部電極形成に用いる第1導電層2と下部電極形成に用いる第2導電層3との間に誘電層4を備えるキャパシタ層形成材1において、当該誘電層4は、ゾル-ゲル法で形成した酸化物誘電膜であり、当該誘電層の厚さ方向及び平面方向に成長した粗大化結晶組織であり、且つ、粒径(長径)が50nm〜300nmの酸化物結晶組織を含むことを特徴としたキャパシタ層形成材を採用する。そして、このキャパシタ層形成材を効率よく得るための製造方法を提供する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
上部電極形成に用いる第1導電層と下部電極形成に用いる第2導電層との間に誘電層を備えるキャパシタ層形成材において、
当該誘電層は、ゾル-ゲル法で形成した酸化物誘電膜であり、当該誘電層の厚さ方向及び平面方向に成長した粗大化結晶組織であり、且つ、粒径(長径)が50nm〜300nmの酸化物結晶組織を含むことを特徴としたキャパシタ層形成材。
IPC (4件):
H01G 4/33
, H01G 4/12
, H05K 1/16
, H05K 1/18
FI (5件):
H01G4/06 101
, H01G4/12 397
, H01G4/12 400
, H05K1/16 D
, H05K1/18 R
Fターム (43件):
4E351BB03
, 4E351BB30
, 4E351DD41
, 4E351DD58
, 4E351EE02
, 4E351GG06
, 5E001AB01
, 5E001AC01
, 5E001AC09
, 5E001AE02
, 5E001AE03
, 5E001AE04
, 5E001AH01
, 5E001AJ02
, 5E082AB01
, 5E082EE03
, 5E082EE23
, 5E082EE45
, 5E082FF05
, 5E082FG04
, 5E082FG26
, 5E082FG27
, 5E082FG46
, 5E082FG54
, 5E082PP03
, 5E082PP05
, 5E082PP06
, 5E082PP09
, 5E336AA04
, 5E336AA08
, 5E336AA16
, 5E336CC42
, 5E336CC51
, 5E336GG11
, 5E346AA13
, 5E346AA22
, 5E346BB20
, 5E346CC21
, 5E346DD07
, 5E346FF45
, 5E346GG19
, 5E346GG28
, 5E346HH01
引用特許: