特許
J-GLOBAL ID：200903017985851960

露光計測方法及び装置、並びに半導体装置の製造方法

発明者：
山本 智彦

山本 智彦 について


出願人/特許権者：
富士通株式会社

富士通株式会社 について


代理人 (1件)： 國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-177098
公開番号（公開出願番号）：特開2006-005003
出願日： 2004年06月15日
公開日（公表日）： 2006年01月05日
要約：
【課題】 簡便に精度良くフォーカス変動量を計測することが可能となる。また、そのフォーカス変動の結果を次ロットや次工程に反映させることにより、精度良く微細なパターンを形成する。【解決手段】 ウェーハ上に転写形成された複数の転写パターンのうち、最適な焦点位置の相異なる少なくとも一対の転写パターンについて、これらの各寸法を測定する寸法測定手段1と、一方の寸法と他方の寸法との差分値を求める差分値算出手段2と、この差分値を用いてウェーハのフォーカスエラー量を算出する焦点変動量算出手段3と、各転写パターンの寸法及びフォーカスエラー量を用いて、ウェーハの露光エラー量を算出する露光変動量算出手段4とを有して露光計測装置が構成されている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被転写体上に転写形成された複数の転写パターンのうち、最適な焦点位置の相異なる少なくとも一対の前記転写パターンについて、これらの各寸法を測定するステップと、 一方の前記転写パターンの前記寸法と他方の前記転写パターンの前記寸法との差分値を求めるステップと、 前記差分値を用いて前記被転写体の焦点変動量を算出するステップと を含むことを特徴とする露光計測方法。
IPC (1件)：
H01L 21/027
FI (3件)：
H01L21/30 526Z ,  H01L21/30 502G ,  H01L21/30 516D
Fターム (4件)：
5F046AA28 ,  5F046DA02 ,  5F046DA14 ,  5F046DA29
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (8件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM