特許
J-GLOBAL ID：200903021565934131

単粒子膜エッチングマスクを有する表面微細凹凸構造体形成用基板とその製法及び表面微細凹凸構造体

発明者：
篠塚 啓

篠塚 啓 について


出願人/特許権者：
王子製紙株式会社

王子製紙株式会社 について


代理人 (2件)： 金谷 宥 ,  船越 巧子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-236083
公開番号（公開出願番号）：特開2009-070933
出願日： 2007年09月12日
公開日（公表日）： 2009年04月02日
要約：
【課題】太陽光発電基板面の反射防止サブ波長微細構造のような反射防止微細凹凸構造の形成に好適な単粒子膜エッチングマスクを有する基板を提供する。【解決手段】(1)基板表面に単粒子を2次元に最密充填配列して形成されている単粒子膜からなるエッチングマスクを有する表面微細凹凸構造体形成用基板。(2)該基板をエッチングして製造される太陽光発電基板。(3)単粒子分散液調製工程、該単粒子分散液を液体面に滴下して単粒子分散液膜を形成する滴下工程、該単粒子分散液膜中の分散媒を揮発させて単粒子が2次元に最密充填し、高精度に配列している単粒子膜を形成する単粒子膜形成工程、該単粒子膜を基板表面に移し取る単粒子膜移行工程により表面微細凹凸構造体形成用基板を製造する。図中、Pは単粒子、Tは2次元最密充填配列状態における単粒子間の隙間を表す。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板表面に単粒子を2次元に最密充填配列して形成されている単粒子膜からなるエッチングマスクを有する表面微細凹凸構造体形成用基板。
IPC (1件)：
H01L 31/04
FI (1件)：
H01L31/04 H
Fターム (12件)：
5F051AA02 ,  5F051BA11 ,  5F051CB18 ,  5F051CB22 ,  5F051CB29 ,  5F051DA03 ,  5F051DA20 ,  5F051EA18 ,  5F051GA04 ,  5F051GA14 ,  5F051GA15 ,  5F051KA09
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (22件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM