特許
J-GLOBAL ID：200903021841493012
電子装置の製造方法及び製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
稲葉 良幸 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-124866
公開番号（公開出願番号）：特開2003-318372
出願日： 2002年04月25日
公開日（公表日）： 2003年11月07日
要約：
【要約】【課題】 薄膜回路や薄膜素子の基板間転写を自動的に行える製造装置を提供することを目的とする。【解決手段】 レーザビ(101a)を発生するレーザ装置(101)と、レーザビームのビームスポットの形状を整えるマスク基板を含むマスク手段(102)と、転写対象体を担う第1の基板(301)を載置する第1のステージ(300)と、転写対象体が転写されるべき第2の基板(201)を載置する第2のステージ(200)と、転写対象体又は第2の基板上の被転写位置に接着剤を塗布する接着剤塗布手段(500)と、第1及び第2のステージの各動作を制御する制御手段(700)と、を含み、制御手段(700)は、少なくとも第1及び第2のステージのいずれかを移動してマスク基板、第1及び第2の基板相互間の位置を合わせ、第1及び第2の基板を密着し、レーザビームを上記転写対象体に照射させ、第1及び第2の基板を離間して転写対象体を第1の基板から第2の基板に転写する。
請求項（抜粋）：
レーザビームを発生するレーザ装置と、前記レーザビームのビームスポットの形状を整えるマスク基板を含むマスク手段と、転写対象体を担う第1の基板を載置する第1のステージと、前記転写対象体が転写されるべき第2の基板を載置する第2のステージと、前記転写対象体又は前記第2の基板上の被転写位置に接着剤を塗布する接着剤塗布手段と、少なくとも前記第1及び第2のステージの各動作を制御する制御手段と、を含み、前記制御手段は、少なくとも前記第1及び第2のステージのいずれかを移動して前記マスク基板、前記第1及び第2の基板相互間の位置を合わせ、前記第1及び第2の基板を密着し、前記レーザビームを前記転写対象体に照射させ、前記第1及び第2の基板を離間して前記転写対象体を前記第1の基板から第2の基板に転写する、電子装置の製造装置。
IPC (8件)：
H01L 27/12
, B23K 26/02
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1368
, G09F 9/00 338
, H05B 33/10
, H05B 33/14
, B23K101:36
H01L 27/12 B
, B23K 26/02 A
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1368
, G09F 9/00 338
, H05B 33/10
, H05B 33/14 A
, B23K101:36
2H088FA16
, 2H088FA17
, 2H088FA18
, 2H088FA30
, 2H088HA08
, 2H088MA20
, 2H092JA24
, 2H092MA02
, 2H092MA22
, 2H092NA27
, 2H092NA29
, 3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4E068AA00
, 4E068CA14
, 4E068CB02
, 4E068CC02
, 4E068CD03
, 4E068CD10
, 4E068CE08
, 4E068DA09
, 5G435AA17
, 5G435BB05
, 5G435BB12
, 5G435CC09
, 5G435KK05
, 5G435KK10
