特許
J-GLOBAL ID：200903022810153570

配向性カーボンナノチューブのパターン化された柱形状集合体および電界放出型冷陰極の製造方法

発明者：
染谷 昌男

染谷 昌男 について

, 
藤井 尊

藤井 尊 について


出願人/特許権者：
三菱瓦斯化学株式会社

三菱瓦斯化学株式会社 について


代理人 (1件)： 永井 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-190825
公開番号（公開出願番号）：特開2006-008473
出願日： 2004年06月29日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：
【課題】配向性カーボンナノチューブ(CNT)のパターン化された柱形状集合体の製造法及びこれを用いた低電圧で均一な電子放出可能な電界放出型冷陰極の製造法を提供する。【解決手段】基礎基板表面上に複数個の触媒担体被膜を任意の位置にパターン形成する工程、該触媒担体被膜を含む該基礎基板表面に触媒作用を持つ金属元素あるいは化合物を焼成担持する工程、該基礎基板表面上に炭素化合物を供給し熱分解する工程により、該触媒担体被膜上に配向性CNTが集合してなる柱形状の集合体を形成させることにより、配向性CNTのパターン化された柱形状集合体を製造する。また、前記柱形状集合体を作製する工程(1)、電極基板表面に導電性バインダー形成させる工程(2)、該柱形状集合体の先端と該導電性バインダーの表面とを接着後、該導電性バインダーと接着した柱形状集合体を残して、該基礎基板を剥離して柱形状集合体を電極基板に転写する工程(3)により電界放出型冷陰極を製造する【選択図】図4
請求項（抜粋）：
基礎基板表面上に複数個の触媒担体被膜を1個の被膜面積が0.01mm2以下で任意の位置にパターン形成する工程と、該触媒担体被膜を含む該基礎基板表面に触媒作用を持つ金属元素または化合物を含浸法、浸漬法またはゾルゲル法で焼成担持する工程と、該基礎基板表面上で炭素化合物を供給し熱分解する工程を経ることにより、該触媒担体被膜上に配向性カーボンナノチューブが集合してなる柱形状の集合体を形成させることを特徴とする、配向性カーボンナノチューブのパターン化された柱形状集合体の製造方法。
IPC (2件)：
C01B 31/02 ,  H01J 9/02
FI (2件)：
C01B31/02 101F ,  H01J9/02 B
Fターム (36件)：
4G146AA11 ,  4G146AB10 ,  4G146AC03B ,  4G146AD23 ,  4G146BA12 ,  4G146BA48 ,  4G146BC03 ,  4G146BC23 ,  4G146BC33B ,  4G146BC42 ,  4G146BC44 ,  4G146DA02 ,  4K029AA07 ,  4K029AA08 ,  4K029AA24 ,  4K029BA03 ,  4K029BA43 ,  4K029BA44 ,  4K029BA64 ,  4K029BB03 ,  4K029BB07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029CA05 ,  5C127AA01 ,  5C127BA09 ,  5C127BA15 ,  5C127CC03 ,  5C127DD02 ,  5C127DD07 ,  5C127DD23 ,  5C127DD42 ,  5C127DD43 ,  5C127DD52 ,  5C127EE04 ,  5C127EE06
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (7件)
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