特許
J-GLOBAL ID：200903024052379832
大気圧プラズマ処理方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石原 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-004295
公開番号（公開出願番号）：特開2007-188689
出願日： 2006年01月12日
公開日（公表日）： 2007年07月26日
要約：
【課題】大気圧プラズマにて被処理物を間欠的に処理する場合に、ガスの使用量を必要最小限に抑制しながら安定して処理を行えるようにする。【解決手段】所定の空間にガスを供給し、前記所定の空間に高周波電圧を印加して大気圧近傍でプラズマを発生させ、プラズマ11にて被処理物2を処理する大気圧プラズマ処理において、処理開始認識手段5からの信号にて処理開始を決定し、ガスの流量を増加させて被処理物2に対してプラズマ処理し、処理終了認識手段6からの信号にて被処理物2に対する処理終了を決定し、ガスの流量を減少させ、かつ減少させたガスの流量においてもプラズマ11を点灯維持するようにした。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
所定の空間にガスを供給し、前記所定の空間に高周波電圧を印加して大気圧近傍でプラズマを発生させ、プラズマにて被処理物を処理する大気圧プラズマ処理方法において、被処理物に対する処理開始決定によりガスの流量を増加させて被処理物をプラズマ処理し、被処理物に対する処理終了決定によりガスの流量を減少させることを特徴とする大気圧プラズマ処理方法。
IPC (4件)：
H05H 1/24
, C23C 16/505
, B01J 19/08
, H01L 21/306
H05H1/24
, C23C16/505
, B01J19/08 E
, H01L21/302 101E
4G075AA30
, 4G075BA05
, 4G075BC06
, 4G075BC10
, 4G075CA47
, 4G075CA63
, 4G075DA02
, 4G075EC30
, 4G075ED11
, 4G075EE02
, 4G075EE12
, 4G075FA12
, 4K030FA01
, 4K030GA04
, 4K030JA05
, 4K030JA09
, 4K030JA16
, 4K030KA30
, 5F004BC03
, 5F004BD04
, 5F004CA02
, 5F004CA07
, 5F004DA00
, 5F004DA22
, 5F004DA23
出願人引用 (2件)
審査官引用 (10件)
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