樹脂組成物、これを利用したパターン形成方法、及びキャパシタ形成方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：八田幹雄 , 奈良泰男 , 宇谷勝幸 , 藤田健 , 都祭正則 , 長谷川俊弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-110899
公開番号（公開出願番号）：特開2007-284681
出願日： 2007年04月19日
公開日（公表日）： 2007年11月01日
要約：

【課題】高分子樹脂組成物、これを利用したパターン形成方法、及びキャパシタ形成方法が開示される。【解決手段】ブロッキング膜を形成するに適合な高分子樹脂組成物で、ベンジルメタクリレート単量体、メタクリル酸単量体、及びヒドロキシエチルメタクリレート単量体からなる共重合体75乃至93質量%、架橋結合剤1乃至7質量%、熱酸発生剤0.01乃至0.5質量%、光酸発生剤0.01乃至1質量%、有機塩基0.00001乃至0.001質量%、及び残余の質量%の溶媒を含む。前記した高分子樹脂組成物を使用して、基板の一部領域をブロッキングするための膜を容易に形成することができる。【選択図】図8

請求項（抜粋）：

ベンジルメタクリレート単量体、メタクリル酸単量体、及びヒドロキシエチルメタクリレート単量体からなる共重合体75乃至93質量%と、架橋結合剤1乃至7質量%と、熱酸発生剤0.01乃至0.5質量%と、光酸発生剤0.01乃至1質量%と、有機塩基0.00001乃至0.001質量%と、溶媒と、を含む高分子樹脂組成物。

IPC (10件)：

C08L 33/14 , H01L 21/027 , G03F 7/033 , G03F 7/004 , G03F 7/038 , C08L 61/28 , C08K 5/00 , C08F 220/18 , C08F 220/06 , C08F 220/28

FI (11件)：

C08L33/14 , H01L21/30 502R , G03F7/033 , G03F7/004 503Z , G03F7/004 501 , G03F7/038 601 , C08L61/28 , C08K5/00 , C08F220/18 , C08F220/06 , C08F220/28

Fターム (38件)：

2H025AA00 , 2H025AB16 , 2H025AB20 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025BE00 , 2H025CB13 , 2H025CB14 , 2H025CB45 , 2H025CC17 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 2H025FA29 , 4J002BG051 , 4J002CC182 , 4J002EN028 , 4J002EN108 , 4J002ER017 , 4J002ES007 , 4J002EU046 , 4J002EU187 , 4J002EV217 , 4J002EV236 , 4J002EV246 , 4J002EV247 , 4J002EV296 , 4J002EV297 , 4J002FD206 , 4J002FD207 , 4J002GP03 , 4J002HA05 , 4J100AJ02Q , 4J100AL08P , 4J100AL09R , 4J100BC43P , 4J100CA05 , 4J100DA39 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (9件)

パターン形成方法およびこれに用いるネガ型ホトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-093073 出願人：東京応化工業株式会社
半導体装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-310031 出願人：株式会社ルネサステクノロジ
共重合体、バッファ膜用組成物、それを用いたパターン形成方法及びそれを用いたキャパシタの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-223588 出願人：三星電子株式会社

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