特許
J-GLOBAL ID：200903050013815510
化学増幅レジスト材料及びそれを用いたパターニング方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
石田 敬
, 吉田 維夫
, 鶴田 準一
, 西山 雅也
, 樋口 外治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-200103
公開番号（公開出願番号）：特開2004-045513
出願日： 2002年07月09日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：
【課題】外部からの塩基種に起因する化学増幅レジスト膜のパターン欠陥を抑制できる化学増幅レジスト材料と、それを用いたパターニング方法を提供すること。【解決手段】基剤樹脂と、パターニング露光の波長に感度を有する光酸発生剤とを含むレジスト材料であって、当該パターニング露光とは別の処理により酸又はラジカルを発生する活性剤を更に含む化学増幅レジスト材料とする。好ましくは、活性剤は熱により分解して酸又はラジカルを発生する物質であり、この物質はレジスト材料の塗膜からレジスト膜を形成するベーク温度以下の温度での加熱により酸又はラジカルを発生するのが好ましい。活性剤は、光酸発生剤が感度を有しない波長での露光により酸又はラジカルを発生する物質であってもよい。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
基剤樹脂と、パターニング露光の波長に感度を有する光酸発生剤とを含む化学増幅レジスト材料であって、当該パターニング露光とは別の処理により酸又はラジカルを発生する活性剤を更に含むことを特徴とする化学増幅レジスト材料。
IPC (5件)：
G03F7/039
, G03F7/004
, G03F7/038
, G03F7/38
, H01L21/027
G03F7/039 601
, G03F7/004 503A
, G03F7/038 601
, G03F7/38 501
, H01L21/30 502R
2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CC17
, 2H025CC20
, 2H025FA01
, 2H025FA17
, 2H096AA26
, 2H096BA01
, 2H096BA09
, 2H096DA01
, 2H096GA08
