特許
J-GLOBAL ID：200903026636257626
基板温調固定装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-156018
公開番号（公開出願番号）：特開2009-302346
出願日： 2008年06月13日
公開日（公表日）： 2009年12月24日
要約：
【課題】耐プラズマ性に優れた接着層を有する基板温調固定装置を提供することを目的とする。【解決手段】吸着対象物が載置される基体と、接着層と、ベースプレートとを有し、前記基体は、前記接着層を介して前記ベースプレート上に固定されている基板温調固定装置であって、前記接着層は、耐プラズマ性を有する物質を含有することを特徴とする。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
吸着対象物が載置される基体と、接着層と、ベースプレートとを有し、
前記基体は、前記接着層を介して前記ベースプレート上に固定されている基板温調固定装置であって、
前記接着層は、耐プラズマ性を有する物質を含有することを特徴とする基板温調固定装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/68 R
, H02N13/00 D
5F031CA02
, 5F031HA03
, 5F031HA08
, 5F031HA16
, 5F031HA37
, 5F031HA38
, 5F031HA39
, 5F031MA28
出願人引用 (3件)
-
静電チャックおよび吸着方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平11-142322
出願人：東陶機器株式会社
-
静電チャックおよび処理装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平11-145507
出願人：東陶機器株式会社, 日本真空技術株式会社
-
ウエハ支持部材
公報種別：公開公報
出願番号：特願2002-019015
出願人：京セラ株式会社
審査官引用 (8件)
全件表示
前のページに戻る
