基板の上に配置された膜の特性を測定する方法およびシステム

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：山川政樹 , 山川茂樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-554141
公開番号（公開出願番号）：特表2007-523492
出願日： 2005年02月14日
公開日（公表日）： 2007年08月16日
要約：

本発明は、基板の上に配置された膜の特性を測定する方法およびシステムを提供することを対象とする。該方法は、膜の上において複数の処理領域を識別することと、複数の処理領域のサブセットの特性を測定することと、測定された特性を確定することと、測定された特性の1つの変化を決定することと、測定された特性の1つと、サブセットの残りの処理領域に関連付けられる測定された特性との比較に基づいて、変化の原因を関連付けることとを含む。該システムは、上述された方法を実施する。

請求項（抜粋）：

基板の上に配置された膜の特性を測定する方法であって、前記膜の上で複数の処理領域を識別することと、前記複数の処理領域のサブセットの特性を測定し、測定された特性を確定することと、前記測定された特性の1つの変化を決定することと、前記測定された特性の前記1つと、前記サブセットの残りの処理領域に関連付けられる測定された特性との比較に基づいて、前記変化の原因を関連付けることとを備えることを特徴とする方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G01B 11/30 , G01B 11/00 , G01B 11/02

FI (5件)：

H01L21/30 502D , H01L21/30 502V , G01B11/30 A , G01B11/00 H , G01B11/02 H

Fターム (29件)：

2F065AA03 , 2F065AA21 , 2F065AA30 , 2F065AA49 , 2F065AA56 , 2F065BB02 , 2F065CC17 , 2F065DD08 , 2F065FF01 , 2F065FF04 , 2F065GG23 , 2F065HH04 , 2F065HH13 , 2F065JJ03 , 2F065JJ08 , 2F065LL04 , 2F065LL22 , 2F065MM03 , 2F065PP12 , 2F065QQ03 , 2F065QQ23 , 2F065QQ25 , 2F065QQ42 , 2F065RR07 , 2F065SS03 , 2F065SS13 , 2F065UU05 , 5F046AA18 , 5F046BA10

引用特許：

審査官引用 (19件)

微細パターン検査方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-287057 出願人：株式会社日立製作所
物品の面をスタンピングするための装置および方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-048498 出願人：モトローラ・インコーポレイテッド
散乱計測を用いてオーバレイ誤差を検出する装置および方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2006-503834 出願人：ケーエルエー-テンカーテクノロジィースコーポレイション

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引用文献：

審査官引用 (2件)

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