露光装置の調整方法及び露光システム

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀正武 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-291328
公開番号（公開出願番号）：特開2003-100599
出願日： 2001年09月25日
公開日（公表日）： 2003年04月04日
要約：

【要約】【課題】調整に伴うスループットの低下を抑制するとともに、歩留まりの向上を図ることができる露光装置の調整方法、及び露光システムを提供する。【解決手段】露光装置STPnで処理した基板を検査した検査結果に基づいて、露光装置STPnの処理データのうち、基板上の一部の領域に関する処理データを収集し、この収集した処理データに基づいて露光装置STPnの調整を行う。

請求項（抜粋）：

マスクのパターンを基板に転写する露光装置を調整する方法であって、前記露光装置で処理した前記基板を検査した検査結果に基づいて、前記露光装置の処理データのうち、前記基板上の一部の領域に関する処理データを収集し、該収集した前記処理データに基づいて前記露光装置の調整を行うことを特徴とする露光装置の調整方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , H01L 21/66

FI (4件)：

G03F 7/20 521 , H01L 21/66 J , H01L 21/30 502 G , H01L 21/30 514 E

Fターム (16件)：

4M106AA01 , 4M106BA14 , 4M106CA16 , 4M106CA38 , 4M106CA40 , 4M106DD23 , 4M106DJ20 , 5F046AA18 , 5F046BA04 , 5F046BA05 , 5F046DA02 , 5F046DA08 , 5F046DA13 , 5F046DA14 , 5F046DD06 , 5F046FC03

引用特許：

審査官引用 (16件)

半導体装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-015002 出願人：株式会社日立製作所
半導体基板の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-198219 出願人：株式会社日立製作所
リソグラフィシステム、露光装置、及びこれらを利用した半導体デバイス製造方泡並びにマシンコントローラ
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-200173 出願人：株式会社ニコン

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