特許
J-GLOBAL ID:200903030556828760

磁気抵抗素子及び磁気メモリ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (8件): 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-094886
公開番号(公開出願番号):特開2008-252036
出願日: 2007年03月30日
公開日(公表日): 2008年10月16日
要約:
【課題】磁化反転に必要な電流密度をより低減する。【解決手段】磁気抵抗素子10は、スピン偏極した電子の作用により磁化の方向が変化する第1の自由層15と、スピン偏極した電子の作用により磁化の方向が変化する第2の自由層13と、磁化の方向が固定された固定層11と、第1の自由層15と第2の自由層13との間に設けられた第1の非磁性層14と、第2の自由層13と固定層11との間に設けられた第2の非磁性層12とを具備する。そして、第1の自由層15の磁気異方性定数Ku1と活性化体積V1との積Ku1×V1と、第2の自由層13の磁気異方性定数Ku2と活性化堆積V2との積Ku2×V2との関係が、Ku1×V1>Ku2×V2を満たす。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
スピン偏極した電子の作用により磁化の方向が変化する第1の自由層と、 スピン偏極した電子の作用により磁化の方向が変化する第2の自由層と、 磁化の方向が固定された固定層と、 前記第1の自由層と前記第2の自由層との間に設けられた第1の非磁性層と、 前記第2の自由層と前記固定層との間に設けられた第2の非磁性層と、 を具備し、 前記第1の自由層の磁気異方性定数Ku1と活性化体積V1との積Ku1×V1と、前記第2の自由層の磁気異方性定数Ku2と活性化堆積V2との積Ku2×V2との関係が、Ku1×V1>Ku2×V2を満たすことを特徴とする磁気抵抗素子。
IPC (3件):
H01L 43/08 ,  H01L 21/824 ,  H01L 27/105
FI (2件):
H01L43/08 Z ,  H01L27/10 447
Fターム (40件):
4M119AA03 ,  4M119AA11 ,  4M119BB01 ,  4M119CC05 ,  4M119DD05 ,  4M119DD06 ,  4M119DD07 ,  4M119DD09 ,  4M119DD17 ,  4M119DD33 ,  4M119DD45 ,  4M119EE23 ,  4M119EE27 ,  5F092AA04 ,  5F092AB08 ,  5F092AC06 ,  5F092AC07 ,  5F092AC12 ,  5F092AD12 ,  5F092AD25 ,  5F092BB22 ,  5F092BB23 ,  5F092BB24 ,  5F092BB31 ,  5F092BB33 ,  5F092BB34 ,  5F092BB35 ,  5F092BB36 ,  5F092BB37 ,  5F092BB42 ,  5F092BB43 ,  5F092BB44 ,  5F092BB45 ,  5F092BC04 ,  5F092BC07 ,  5F092BC08 ,  5F092BC33 ,  5F092BC39 ,  5F092BC46 ,  5F092BE25
引用特許:
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (13件)
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引用文献:
出願人引用 (1件)
  • スピントロニクス-磁性代メモリMRAMの基礎-, 20040410, 初版, P.44
審査官引用 (4件)
  • 磁性材料, 19771120, P130-131
  • スピントロニクス-磁性代メモリMRAMの基礎-, 20040410, 初版, P.44
  • スピントロニクス-磁性代メモリMRAMの基礎-, 20040410, 初版, P.44
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