特許
J-GLOBAL ID：200903036916322402
セラミックス膜の製造方法およびこれに用いる加圧型熱処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
井上 一
, 布施 行夫
, 大渕 美千栄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-073929
公開番号（公開出願番号）：特開2004-281900
出願日： 2003年03月18日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：
【課題】加圧下で良好な結晶化が可能なセラミックス膜の製造方法、およびこの製造方法に用いられ、短時間で所定の圧力および温度に設定できる加圧型熱処理装置を提供する。【解決手段】セラミックスの製造方法は、複合酸化物を含む原材料体が基体に塗布された被処理体100を準備すること、被処理体100をチャンバ200内に保持し、2気圧以上に加圧され、かつ少なくとも酸化性ガスを含む処理ガス中において所定圧力で熱処理することにより、原材料体を結晶化させること、を含む。処理ガスは、予め所定温度に加熱されて前記チャンバに供給される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
複合酸化物を含む原材料体が基体に塗布された被処理体を準備すること、
前記被処理体をチャンバ内に保持し、2気圧以上に加圧され、かつ少なくとも酸化性ガスを含む処理ガス中において所定圧力で熱処理することにより、前記原材料体を結晶化させること、
を含み、
前記処理ガスは、予め所定温度に加熱されて前記チャンバに供給される、セラミックス膜の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
5F058BA11
, 5F058BC03
, 5F058BF46
, 5F058BH03
