感光性樹脂組成物、LCD基板及びLCD基板のパターン形成方法

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：小野由己男 , 堀川かおり
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-153818
公開番号（公開出願番号）：特開2005-338849
出願日： 2005年05月26日
公開日（公表日）： 2005年12月08日
要約：

【課題】感度、透過率、絶縁性、耐化学性等の性能が優れており、特に、平坦性及びコーティング性を著しく向上させ、LCD等製造工程の層間絶縁膜等の形成に適した感光性樹脂組成物。【解決手段】感光性樹脂組成物であり、a)i)不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物又はこれらの混合物、ii)エポキシ含有不飽和化合物及びiii)オレフィン系不飽和化合物を共重合させて得られたアクリル系共重合体、b)1,2-キノンジアジド化合物、ならびにc)ベンジルアルコール、ヘキシルアルコール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル及びジプロピレングリコールジエチルエーテルからなる群より選択される1以上の溶媒を含むとを特徴とする。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

a)i)不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物又はこれらの混合物、 ii)エポキシ含有不飽和化合物及び iii)オレフィン系不飽和化合物を共重合させて得られたアクリル系共重合体、 b)1,2-キノンジアジド化合物、ならびに c)ベンジルアルコール、ヘキシルアルコール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル及びジプロピレングリコールジエチルエーテルからなる群より選択される1以上の溶媒を含むとを特徴とする感光性樹脂組成物。

IPC (4件)：

G03F7/023 , C08F220/00 , G03F7/004 , G03F7/033

FI (4件)：

G03F7/023 , C08F220/00 , G03F7/004 501 , G03F7/033

Fターム (53件)：

2H025AA01 , 2H025AA06 , 2H025AA07 , 2H025AA08 , 2H025AA20 , 2H025AB14 , 2H025AB17 , 2H025AC01 , 2H025AD03 , 2H025BE01 , 2H025CB08 , 2H025CB10 , 2H025CB13 , 2H025CB14 , 2H025CB30 , 2H025CB41 , 2H025CB43 , 2H025CB55 , 2H025CB56 , 2H025CC03 , 2H025FA17 , 4J100AB02Q , 4J100AB03Q , 4J100AB04Q , 4J100AB07P , 4J100AB07Q , 4J100AJ02R , 4J100AJ08R , 4J100AJ09R , 4J100AK31R , 4J100AK32R , 4J100AL03Q , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL09Q , 4J100AL10P , 4J100AL11Q , 4J100AS02Q , 4J100AS03Q , 4J100BA02Q , 4J100BA04Q , 4J100BA15P , 4J100BC04Q , 4J100BC07Q , 4J100BC08Q , 4J100BC09Q , 4J100BC28Q , 4J100BC43Q , 4J100BC54P , 4J100CA05 , 4J100DA01 , 4J100FA03 , 4J100JA37

引用特許：

審査官引用 (14件)

感放射線性樹脂組成物、パターン状絶縁性被膜の形成方法、アクティブマトリクス基板およびそれを備えた平面表示装置、並びに平面表示装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-105353 出願人：シャープ株式会社, JSR株式会社
カラーフィルター保護膜またはTFT層間絶縁膜と一体となったスペーサー用感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-141134 出願人：ジェイエスアール株式会社
表示パネルスペーサー用感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-348354 出願人：ジェイエスアール株式会社

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