特許
J-GLOBAL ID：200903038925203826

スキャニングプローブ、該スキャニングプローブを用いた装置及び前記装置により製造された半導体デバイス及び微細構造素子

発明者：
斉藤 謙治

斉藤 謙治 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 若林 忠 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-251371
公開番号（公開出願番号）：特開2000-081382
出願日： 1998年09月04日
公開日（公表日）： 2000年03月21日
要約：
【要約】【課題】 ナノメートル以下の微細構造パターンの評価や形成に用いられるスキャニングプローブの性能を長期間良好に保つ。【解決手段】 ステージ72上にはレジスト33の塗布されたウエハ65が載置され、また、紫外線と光触媒反応を起こす膜が先端部の表面に形成されたアライメント用プローブ62及び露光用プローブ95を、それぞれ清浄するための紫外線照射手段86が設けられている。励起光照射手段71からアライメントマーク61に対して照射された照射光74により生じた近接場光68の散乱光は、アライメント用プローブ62のファイバ87を介して検出器137へと導光される。露光光源91から発せられた露光光は、ファイバ92を介して導光され、露光用プローブ95の先端部から近接場光98として滲み出る。
請求項（抜粋）：
試料の表面を走査するスキャニングプローブにおいて、前記スキャニングプローブの少なくとも先端部を被覆する光触媒の膜が形成されていることを特徴とするスキャニングプローブ。
IPC (7件)：
G01N 13/14 ,  G01B 7/28 ,  G01B 7/34 ,  G01B 21/20 ,  G01B 21/30 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/66
FI (7件)：
G01N 37/00 E ,  G01B 7/28 E ,  G01B 7/34 Z ,  G01B 21/20 P ,  G01B 21/30 Z ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/66 C
Fターム (29件)：
2F063AA03 ,  2F063AA43 ,  2F063BA30 ,  2F063DA01 ,  2F063DA05 ,  2F063EA16 ,  2F063EB23 ,  2F063FA07 ,  2F063NA04 ,  2F069AA03 ,  2F069AA60 ,  2F069BB15 ,  2F069CC07 ,  2F069GG04 ,  2F069GG06 ,  2F069GG07 ,  2F069GG45 ,  2F069HH30 ,  2F069JJ07 ,  2F069LL03 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106CA70 ,  4M106DH01 ,  4M106DH32 ,  4M106DH37 ,  4M106DH39 ,  4M106DJ03 ,  4M106DJ32
引用特許：
審査官引用 (19件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM