特許
J-GLOBAL ID：200903039967482497

欠陥検査装置およびその方法

発明者：
浦野 雄太

浦野 雄太 について

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中野 博之

中野 博之 について

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宇都 幸雄

宇都 幸雄 について

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中田 俊彦

中田 俊彦 について

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浜松 玲

浜松 玲 について

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前田 俊二

前田 俊二 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： 井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-049488
公開番号（公開出願番号）：特開2007-033433
出願日： 2006年02月27日
公開日（公表日）： 2007年02月08日
要約：
【課題】 酸化膜などの透明膜が存在する被検査対象に対して、回路パターンに起因するノイズを低減させることで、実害になる異物又は欠陥を高感度に検出可能とする。【解決手段】 基板試料を載置してX-Y-Z-θの各方向へ任意に移動可能なステージ部と、回路パターンを斜方から照射する照明系と、照明された検査領域を上方および斜方から検出器上に結像する結像光学系とを有し、該照明系の照射により前記回路パターン上に発生する散乱光および回折光を集光する。更に、回路パターンの直線部分からの回折光を遮光するためにフーリエ変換面上に設けた空間フィルタを有する。更に、上記検出器で受光された上記照射された試料上からの散乱反射光を電気信号に変換し、該変換された電気信号を繰り返すチップ間で比較して不一致により試料上の異物として検査する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
繰返しパターンを含む回路パターンが形成された試料上に一方向に長い形状に成形した光を斜め方向から照射し、 該一方向に長い形状に成形された光が照射された前記試料からの反射散乱光のうち前記試料に対して第1の仰角方向に反射散乱した光を前記繰返しパターンからの散乱光を遮光して検出して第1の検出信号を得、 前記一方向に長い形状に成形された光が照射された前記試料からの反射散乱光のうち前記試料に対して前記第1の仰角方向よりも低い第2の仰角方向に反射散乱した光を前記繰返しパターンからの散乱光を遮光して検出して第2の検出信号を得、 前記第1の検出信号と前記第2の検出信号とを処理して前記試料上の異物を含む欠陥を検出することを特徴とする欠陥検査方法。
IPC (3件)：
G01N 21/956 ,  G01B 11/30 ,  H01L 21/66
FI (3件)：
G01N21/956 Z ,  G01B11/30 A ,  H01L21/66 J
Fターム (70件)：
2F065AA49 ,  2F065BB02 ,  2F065CC17 ,  2F065CC19 ,  2F065CC31 ,  2F065FF41 ,  2F065FF48 ,  2F065FF49 ,  2F065FF51 ,  2F065GG05 ,  2F065GG06 ,  2F065GG08 ,  2F065HH05 ,  2F065HH08 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ17 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL08 ,  2F065LL20 ,  2F065LL21 ,  2F065LL22 ,  2F065LL24 ,  2F065LL30 ,  2F065LL32 ,  2F065LL36 ,  2F065LL37 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ31 ,  2G051AA51 ,  2G051AA73 ,  2G051AB01 ,  2G051AB02 ,  2G051AB06 ,  2G051AB07 ,  2G051BA01 ,  2G051BA05 ,  2G051BA10 ,  2G051BA11 ,  2G051BB09 ,  2G051BB11 ,  2G051CA02 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CA07 ,  2G051CB05 ,  2G051CB06 ,  2G051CC07 ,  2G051CC09 ,  2G051CC12 ,  2G051DA07 ,  2G051DA08 ,  2G051EA14 ,  2G051EC04 ,  2G051EC05 ,  4M106AA01 ,  4M106BA05 ,  4M106BA07 ,  4M106CA41 ,  4M106DB02 ,  4M106DB08 ,  4M106DB15 ,  4M106DB19 ,  4M106DJ04 ,  4M106DJ05 ,  4M106DJ06
引用特許：
出願人引用 (16件)
  • 特開昭62-89336号公報
  • 特開昭63-135848号公報
  • 異物検査方法及びその装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-098095   出願人：株式会社日立製作所
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審査官引用 (8件)
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