特許
J-GLOBAL ID：200903040549637792
光学デバイス用材料・光学デバイス・光学デバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-000261
公開番号（公開出願番号）：特開平7-198906
出願日： 1994年01月06日
公開日（公表日）： 1995年08月01日
要約：
【要約】【目的】広範なレンズ作用を実現しやすい光学デバイスの製造方法を提供する。【構成】透明な基体1上に形成されたレンズ面形成層10上に、直接もしくは遮光層を介して形成されたフォトレジスト12の層に、レンズパターンもしくはレンズ配列パターンをフォトリソグラフィによりパターニングし、パターニングされたフォトレジスト12の層を熱処理し、フォトレジスト12の熱流動と表面張力とにより、フォトレジストの表面を凸曲面化し、表面を凸曲面化されたフォトレジスト12とレンズ面形成層10に対してドライエッチングを行い、フォトレジスト12の表面の凸曲面形状をレンズ面形成層10に彫り写すことにより、レンズ面形成層10に、レンズパターンもしくはレンズ配列パターンに対応したレンズ面もしくはレンズ面配列を得る。
請求項（抜粋）：
透明な基体の1以上の面に、基体と屈折率の異なる透明材料の層を、レンズ面形成層として所望の厚さに形成してなる光学デバイス用材料。
IPC (4件)：
G02B 3/00
, B29C 69/00
, B29D 11/00
, B29L 11:00
出願人引用 (22件)
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審査官引用 (22件)
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