特許
J-GLOBAL ID：200903040853577852
反射防止膜形成用塗布液
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
服部 平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-256227
公開番号（公開出願番号）：特開平11-084640
出願日： 1997年09月05日
公開日（公表日）： 1999年03月26日
要約：
【要約】【課題】本発明は、反射防止効果を保持しつつ、少量の塗布で均一な塗布膜を形成できる上に、得られた塗布膜には表面欠陥の発生がなく、半導体素子を低コストでかつ歩留まりよく製造できる反射防止膜形成用塗布液を提供すること。【解決手段】レジスト膜上に反射防止膜を形成する塗布液であって、レジスト膜上に塗布した時レジスト膜との接触角が15度以下となることを特徴とする反射防止膜形成用塗布液。
請求項（抜粋）：
レジスト膜上に干渉防止膜を形成する塗布液であって、レジスト膜上に塗布した時レジスト膜との接触角が15度以下となることを特徴とする反射防止膜形成用塗布液。
IPC (4件)：
G03F 7/004 506
, C09D 5/00
, G03F 7/11 501
, H01L 21/027
G03F 7/004 506
, C09D 5/00 M
, G03F 7/11 501
, H01L 21/30 574
