特許
J-GLOBAL ID：200903042761986708
ナノプリントを用いた微細3次元構造体の製造方法及び微細3次元構造体
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野口 繁雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-398281
公開番号（公開出願番号）：特開2005-153113
出願日： 2003年11月28日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：
【課題】 ナノプリント技法において転写精度を高める。 【解決手段】 表面に微細形状をもつ金型の表面に硬化可能な樹脂14を介して製品基板12を押し当てて、金型の表面形状の反転形状をその樹脂14に転写し、その樹脂14を硬化させた後、その樹脂14を製品基板12に接合させた状態でその樹脂を金型から剥離させる。製品基板12上の樹脂14のうち、金型形状によらない不要樹脂部分14aを第1ドライエッチング工程で除去した後、樹脂14に転写された形状を第2ドライエッチング工程で製品基板12に転写する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
以下の工程(A)から(E)を備えて微細表面構造をもつ物品を製造する製造方法。
(A)表面に微細形状をもつ金型の表面に硬化可能な樹脂を介して製品基板を押し当てて、前記金型の表面形状の反転形状を前記樹脂に転写する工程、
(B)前記樹脂を硬化させる工程、
(C)前記樹脂を前記製品基板に接合させた状態でその樹脂を前記金型から剥離させる工程、
(D)前記製品基板上の樹脂のうち、前記金型形状によらない不要樹脂部分を除去する第1ドライエッチング工程、及び
(E)前記樹脂に転写された形状を前記製品基板に転写する第2ドライエッチング工程。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
出願人引用 (1件)
審査官引用 (12件)
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