特許
J-GLOBAL ID：200903042781925438

パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法

発明者：
高島 正伸

高島 正伸 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (3件)： 廣田 浩一 ,  流 良広 ,  松田 奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-105254
公開番号（公開出願番号）：特開2005-292336
出願日： 2004年03月31日
公開日（公表日）： 2005年10月20日
要約：
【課題】 クッション層と感光層とを有し、405nmの光を照射する場合の該感光層の吸光度が一定の数値範囲であることにより、形成したパターンの形状に優れるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 【解決手段】 支持体上にクッション層と感光層とを少なくとも有し、該感光層に対して405nmの光を照射する場合の該感光層の吸光度が、0.05〜1であることを特徴とするパターン形成材料である。該パターン形成材料を備えており、光を照射可能な光照射手段と、該光照射手段からの光を変調し、前記パターン形成材料における感光層に対して露光を行う光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置である。前記パターン形成材料における前記感光層に対し、露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法である。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
支持体上にクッション層と感光層とを少なくとも有し、該感光層に対して405nmの光を照射する場合の該感光層の吸光度が、0.05〜1であることを特徴とするパターン形成材料。
IPC (4件)：
G03F7/004 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26
FI (4件)：
G03F7/004 512 ,  G03F7/11 502 ,  G03F7/20 501 ,  G03F7/26 501
Fターム (28件)：
2H025AA03 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025BC45 ,  2H025BC83 ,  2H025BJ00 ,  2H025CA01 ,  2H025CA07 ,  2H025CA28 ,  2H025CA30 ,  2H025CA39 ,  2H025CA48 ,  2H025DA23 ,  2H025DA40 ,  2H025EA08 ,  2H025FA17 ,  2H096AA26 ,  2H096AA30 ,  2H096BA05 ,  2H096CA16 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H097AA03 ,  2H097FA06 ,  2H097LA09
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (15件)
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