特許
J-GLOBAL ID：200903048026872705

処理装置及び処理方法

発明者：
鐘ヶ江 正巳

鐘ヶ江 正巳 について

, 
沖野 晃俊

沖野 晃俊 について

, 
宮原 秀一

宮原 秀一 について


出願人/特許権者：
リバーベル株式会社

リバーベル株式会社 について

, 
国立大学法人東京工業大学

国立大学法人東京工業大学 について


代理人 (7件)： 中尾 俊輔 ,  伊藤 高英 ,  畑中 芳実 ,  大倉 奈緒子 ,  玉利 房枝 ,  鈴木 健之 ,  磯田 志郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-092044
公開番号（公開出願番号）：特開2008-028365
出願日： 2007年03月30日
公開日（公表日）： 2008年02月07日
要約：
【課題】リードタイムを短くし、処理性能において従来よりも信頼性のある処理装置及び処理方法を提供する。【解決手段】チャンバー1と、チャンバー内に設けられ、被処理物2を保持する保持手段3と、チャンバー内に活性原子を供給する活性原子供給手段4と、チャンバー内に薬液を供給する薬液供給手段5とを有し、被処理物の表面に対し、活性原子供給手段から供給される活性原子によるドライ処理及び薬液供給手段から供給される薬液によるウェット処理を行なう。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
チャンバーと、 前記チャンバー内に設けられ、被処理物を保持する保持手段と、 前記チャンバー内に活性原子を供給する活性原子供給手段と、 前記チャンバー内に薬液を供給する薬液供給手段とを有し、 前記被処理物の表面に対し、前記活性原子供給手段から供給される活性原子によるドライ処理及び前記薬液供給手段から供給される薬液によるウェット処理を行なうことを特徴とする処理装置。
IPC (6件)：
H01L 21/306 ,  H01L 21/304 ,  B08B 7/04 ,  B08B 7/00 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/027
FI (11件)：
H01L21/302 101E ,  H01L21/306 E ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 643C ,  H01L21/304 642A ,  H01L21/304 645C ,  H01L21/304 647Z ,  B08B7/04 Z ,  B08B7/00 ,  G03F7/42 ,  H01L21/30 572B
Fターム (66件)：
2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096LA01 ,  3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AB33 ,  3B116AB42 ,  3B116BB03 ,  3B116BB38 ,  3B116BB42 ,  3B116BB89 ,  3B116BC01 ,  3B116CD35 ,  5F004BD01 ,  5F004CA05 ,  5F004DA01 ,  5F004DA16 ,  5F004DA22 ,  5F004DA24 ,  5F004DA26 ,  5F004DB07 ,  5F004DB26 ,  5F004EA10 ,  5F043AA35 ,  5F043BB23 ,  5F043DD15 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE27 ,  5F046MA02 ,  5F046MA07 ,  5F046MA10 ,  5F157AA64 ,  5F157AA93 ,  5F157AB03 ,  5F157AB13 ,  5F157AB33 ,  5F157AB42 ,  5F157AC01 ,  5F157AC43 ,  5F157BB02 ,  5F157BB36 ,  5F157BB64 ,  5F157BD25 ,  5F157BD28 ,  5F157BD33 ,  5F157BE33 ,  5F157BE43 ,  5F157BE46 ,  5F157BE48 ,  5F157BG02 ,  5F157BG04 ,  5F157BG05 ,  5F157BG06 ,  5F157BG32 ,  5F157BG33 ,  5F157BG35 ,  5F157CE10 ,  5F157CE22 ,  5F157CE24 ,  5F157CE66 ,  5F157CF02 ,  5F157CF32 ,  5F157CF64 ,  5F157CF90 ,  5F157DB46
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (7件)
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