特許
J-GLOBAL ID:200903048203538179
純水循環供給システム、純水再利用方法、および基板処理方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (5件):
渡邉 勇
, 堀田 信太郎
, 小杉 良二
, 森 友宏
, 廣澤 哲也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-145273
公開番号(公開出願番号):特開2007-313421
出願日: 2006年05月25日
公開日(公表日): 2007年12月06日
要約:
【課題】清浄度が高い排水をより効率的に使用し、純水の回収率を向上することができる純水循環供給システムを提供する。【解決手段】純水循環供給システムは、純水を生成する1次純水生成部510と純水から超純水を生成する2次純水生成部520とを有する純水製造装置530と、純水製造装置530の2次純水生成部520で生成した超純水を需要機器540に供給する超純水経路550と、対象イオンの濃度が低められた処理水を生成する電気透析装置560と、電気透析装置560で対象イオンの濃度が低められた処理水を純水製造装置530の2次純水生成部520に供給する処理水経路570とを備えている。【選択図】図1
請求項(抜粋):
純水を生成する1次純水生成部と純水から超純水を生成する2次純水生成部とを有する純水製造装置と、
前記純水製造装置の2次純水生成部で生成した超純水を需要機器に供給する超純水経路と、
陽極を有する陽極室と、陰極を有する陰極室と、前記需要機器から排出される排水から対象イオンを除去して該対象イオンの濃度が低められた処理水を生成する脱塩室と、前記脱塩室から移動した前記排水中の対象イオンを濃縮して該対象イオンの濃度が高められた濃縮水を生成する濃縮室と、前記陽極室に純水を供給する経路とを有する電気透析装置と、
前記電気透析装置で前記対象イオンの濃度が低められた処理水を前記純水製造装置の2次純水生成部に供給する処理水経路と、
を備えた純水循環供給システム。
IPC (5件):
C02F 1/469
, B01D 61/44
, B01D 61/48
, C02F 1/70
, C02F 1/32
FI (5件):
C02F1/46 103
, B01D61/44 520
, B01D61/48
, C02F1/70 Z
, C02F1/32
Fターム (44件):
4D006GA17
, 4D006JA30Z
, 4D006KA01
, 4D006KA51
, 4D006KB04
, 4D006KB30
, 4D006PA01
, 4D006PB08
, 4D006PB70
, 4D006PC04
, 4D037AA11
, 4D037AB11
, 4D037AB18
, 4D037BA18
, 4D037CA03
, 4D037CA04
, 4D050AA13
, 4D050AB32
, 4D050AB33
, 4D050BC05
, 4D050BC06
, 4D050BC09
, 4D050CA09
, 4D050CA10
, 4D061DA08
, 4D061DB18
, 4D061DC13
, 4D061DC15
, 4D061DC19
, 4D061DC20
, 4D061EA09
, 4D061EB01
, 4D061EB04
, 4D061EB13
, 4D061EB28
, 4D061EB30
, 4D061EB31
, 4D061EB35
, 4D061EB39
, 4D061FA07
, 4D061FA08
, 4D061FA17
, 4D061GC12
, 4D061GC14
引用特許:
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