減圧乾燥装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐々木聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-346104
公開番号（公開出願番号）：特開2008-159782
出願日： 2006年12月22日
公開日（公表日）： 2008年07月10日
要約：

【課題】被処理基板の搬入出を効率よく安全かつスムースに行い、しかも基板上の塗布膜に転写跡が付くのを防止すること。【解決手段】この減圧乾燥ユニット(VD)46は、減圧乾燥処理を受けるべき基板Gを搬入側コロ搬送路104のコロ搬送およびステージ122上の浮上式ローラ搬送でチャンバ106の中に搬入し、チャンバ106内で減圧乾燥処理の済んだ基板Gをステージ122上の浮上式ローラ搬送路の浮上式ローラ搬送および搬出側コロ搬送路110のコロ搬送によってチャンバ106の外へ搬出する。減圧乾燥処理中は、ステージ122の上面に基板Gを面接触状態で載置する。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

被処理基板上の塗布液に減圧状態で乾燥処理を施す減圧乾燥装置であって、前記基板を略水平状態で収容するための空間を有する減圧可能なチャンバと、前記乾燥処理中に前記チャンバ内の空間を密閉状態で真空排気するための第1の排気機構と、前記チャンバ内で前記基板を載置するための上面を有し、かつ前記上面に前記基板を浮上させるガスを噴出するための多数のガス噴出孔を有するステージと、前記ガス噴出孔に前記ステージの中を通るガスラインを介して基板浮上用のガスを供給するためのガス供給部と、前記ガスラインを真空排気するための第2の排気機構とを有し、前記乾燥処理を行うときは前記ガスラインを前記第2の排気機構に接続して前記基板を前記ステージの上面に載置し、前記基板の搬入出を行うときは前記ガスラインを前記ガス供給部に接続して前記基板を前記ステージ上で浮上させる減圧乾燥装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , F26B 5/04 , F26B 15/12

FI (3件)：

H01L21/30 567 , F26B5/04 , F26B15/12 E

Fターム (13件)：

3L113AA01 , 3L113AA02 , 3L113AC23 , 3L113AC48 , 3L113AC67 , 3L113BA34 , 3L113CB15 , 3L113DA04 , 3L113DA06 , 3L113DA08 , 3L113DA10 , 3L113DA24 , 5F046KA10

引用特許：

出願人引用 (12件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-357134 出願人：東京エレクトロン株式会社
基板処理装置及び基板処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-377532 出願人：東京エレクトロン株式会社
特開平2-238616

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