特許
J-GLOBAL ID：200903051643983647

欠陥を検査する方法及び欠陥検査装置

発明者：
坂井 一文

坂井 一文 について

, 
野中 一洋

野中 一洋 について


出願人/特許権者：
独立行政法人産業技術総合研究所

独立行政法人産業技術総合研究所 について


代理人 (3件)： 富崎 元成 ,  円城寺 貞夫 ,  町田 光信
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-133809
公開番号（公開出願番号）：特開2009-281846
出願日： 2008年05月22日
公開日（公表日）： 2009年12月03日
要約：
【課題】被検査体における内部析出物、空洞欠陥、表面の異物ないしスクラッチ、表層のクラックの欠陥を精度よく検出し、欠陥の種類を特定して欠陥を分類できるようにする。【解決手段】光源装置4からの光をポラライザー5を介して偏光を与えて被検査体Wに対し斜め方向に入射させ、その散乱光SBを暗視野に配置された偏光分離素子9を有するCCD撮像装置7で撮像し、得られたP偏光成分画像とS偏光成分画像とについて成分光強度を得て、それらの比としての偏光方向を求める。被検査体に応力を印加していない状態と、応力を印加した状態の光散乱体の撮像により得られた画像から成分光強度、偏光方向を求め、所定の閾値と対比することにより欠陥の検出、分類がなされる。【選択図】図11
請求項（抜粋）：
被検査体に応力を印加していない状態と応力を印加した状態とにおいて該被検査体内に浸透し得る波長の光をポラライザーにより偏光を与えた上で該被検査体の面に照射しその散乱光を検出することにより被検査体の欠陥を検査する方法であって、 前記被検査体に応力を印加していない状態で前記被検査体の面上の位置において偏光を与えた光を該面に対して斜め方向に照射しそれにより生じた散乱光をP偏光の成分光とS偏光の成分光とに分離し各々の成分光の強度及びそれらの比としての偏光方向を求めることと、 前記被検査体に応力を印加した状態で前記応力を印加していない状態で光を照射したのと同じ前記被検査体の面上の位置において偏光を与えた光を該面に対して斜め方向に照射しそれにより生じた散乱光をP偏光の成分光とS偏光の成分光とに分離し各々の成分光の強度及びそれらの比としての偏光方向を求めることと、 前記被検査体に応力を印加していない状態で求められた各々の成分光の強度及び偏光方向と前記被検査体に応力を印加た状態で求められた各々の成分光の強度及び偏光方向を所定の閾値と対比することにより欠陥の検出及び/または分類を行うことと、 からなることを特徴とする欠陥を検査する方法。
IPC (4件)：
G01N 21/956 ,  G01N 21/49 ,  G01J 4/04 ,  H01L 21/66
FI (5件)：
G01N21/956 A ,  G01N21/49 Z ,  G01J4/04 Z ,  H01L21/66 N ,  H01L21/66 J
Fターム (48件)：
2G051AA51 ,  2G051AA56 ,  2G051AA73 ,  2G051AA90 ,  2G051AB02 ,  2G051BA06 ,  2G051BA10 ,  2G051BA11 ,  2G051BB05 ,  2G051BB09 ,  2G051BB11 ,  2G051CA04 ,  2G051CB05 ,  2G051CC09 ,  2G051CC20 ,  2G051DA07 ,  2G051DA20 ,  2G051EA09 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G059AA03 ,  2G059BB08 ,  2G059BB16 ,  2G059DD12 ,  2G059DD16 ,  2G059EE02 ,  2G059GG01 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ19 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01 ,  2G059MM04 ,  2G059MM10 ,  4M106AA01 ,  4M106BA05 ,  4M106BA06 ,  4M106CA46 ,  4M106CB19 ,  4M106DB04 ,  4M106DB08 ,  4M106DB14 ,  4M106DB30 ,  4M106DH12 ,  4M106DH32 ,  4M106DJ04 ,  4M106DJ20
引用特許：
出願人引用 (16件)
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審査官引用 (7件)
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