特許
J-GLOBAL ID：200903053341128902

半導体ウエハ用保持装置

発明者：
ナードラグ、バルター

ナードラグ、バルター について

, 
ジフェック、クラウス

ジフェック、クラウス について


出願人/特許権者：
ジーコ・プロドゥクツィオーンス-ウント・ハンデルスゲゼルシャフト・エム・ベー・ハー

ジーコ・プロドゥクツィオーンス-ウント・ハンデルスゲゼルシャフト・エム・ベー・ハー について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-529009
公開番号（公開出願番号）：特表2003-521109
出願日： 2000年10月05日
公開日（公表日）： 2003年07月08日
要約：
【要約】【課題】 半導体ウエハ用保持装置【解決手段】 複数の半導体ウエハをその中に互いに垂直方向にかつ互いに平行に配置することができ、使用位置において垂直な複数のブレース1を有し、これらのブレースに、リングもしくは環状セグメント2が互いに平行にかつ所定の間隔を置いて垂直方向に設けられ、上方に向きかつ半導体ウエハのサポートを形成するリングまたは環状セグメント2の表面4は、研磨されるか、もしくは、支持ピン20が取付けられる。
請求項（抜粋）：
複数の半導体ウエハをその中に互いに垂直方向にかつ互いに平行に配置することができ、垂直ブレース(1)を有し、この垂直ブレースに半導体ウエハ用サポートが設けられる半導体ウエハ用保持装置であって、半導体ウエハ用サポートは、垂直ブレース(1)に取付けられるリングもしくは環状セグメント(2)であることを特徴とする装置。
Fターム (10件)：
5F031CA02 ,  5F031HA08 ,  5F031HA09 ,  5F031HA10 ,  5F031HA42 ,  5F031HA61 ,  5F031HA62 ,  5F031HA64 ,  5F031HA65 ,  5F031PA23
引用特許：
審査官引用 (13件)
  • 縦型炉用ボート
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-072685   出願人：ソニー株式会社
  • 縦型半導体製造装置のウエハ支持具
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-070810   出願人：宮城沖電気株式会社, 沖電気工業株式会社
  • ウエハボート
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-044286   出願人：東京エレクトロン株式会社
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